不同的湿法晶片清洗技术方法 虽然听起来可能没有极紫外(EUV)光刻那么性感,但对于确保成功的前沿节点、先进半导体器件制造,湿法晶片清洗技术可能比EUV更重要,这是因为器件的可靠性和最终产品的产量都与晶片的清洁度直接相关,因为晶片要经过数百个图案化、蚀刻、沉积和互连工艺步骤。
半导体制造工艺是实现由材料到分立器件或集成系统的关键,其中清洗工艺是使用最普遍的工艺步骤。本书详细介绍了与分立半导体器件及超大规模集成电路芯片制造相关的各种晶片清洗技术,着重讲解了这些清洗技术的发展过程、基本原理和实际应用问题。全书共分为五部分十三章:第一部分介绍半导体晶片沾污类型、清洗技术的发展历程和演...
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