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(2)日本的TEL（东京电子）家的Certas COR/aCOR设备，在logic\DRAM\NAND领域均有较大的应用，也就是所谓的ALC（Atomic layer clean）该设备不仅能做到对表面氧化物的去除，还能进一步作出形貌（也就是还可以刻Si)，TEL在该设备领域处于高度垄断的地位；（3）当下最领先的Dryclean设备还是离不开美国应用材料（AMAT）...
晶圆干法清洗设备是利用干燥气体将晶圆表面的杂质和污染物去除的设备。干法清洗相比传统的湿法清洗有许多优势,如避免了水分残留和氧化等问题,因此在半导体制造过程中得到了广泛应用。晶圆干法清洗设备不仅可以用于晶圆表面的清洗,还可以用于清洗其他半导体制造过程...
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2022年上半年约占去年全年新签订单的74%，从近三年新签订单金额来看，随着半导体代工制造企业扩产，设备端景气度持续上升。依据券商调研数据，2022 年上半年干法去胶、刻蚀、清洗设备国产率较高。按照国产设备中标数量从高到低排序，不同工艺设备国内厂家中标情况如下：刻蚀设备（44 台）、沉积设备（29 台）、炉管...
至纯科技单片清洗技术对标日本SCREEN,采用NanoSpray方案。至纯科技采用国际主流清洗技术NanoSpray,能提供全部28nm节点湿法设备。至纯科技采用先进的NanoSpray技术,目前已经可以提供28nm节点的全部半导体湿法工艺设备,下半年将有7台套12寸槽式设备和8台套12寸单片设备将交付到中芯、华虹集团、燕东科技等主流客产线,另外在...
作者: 半导体国产替代! 1,涂胶显影设备 2,炉管设备 3,干法刻蚀设备 4,薄膜沉积设备, 5,清洗设备 6,离子注入设备 7,量检测设备 8,CMP及减薄设备
上海新阳主营产品名称 SZ300236主营产品名称大马士革铜互连、TSV、Bumping电镀液及配套添加剂、铜制程蚀刻后清洗液、铝制程蚀刻后清洗液、氮化硅/钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜、浅槽隔离研磨液、
说到半导体中的清洗工艺,其实和洗衣服一样,主要就分为两种: 湿着洗和干着洗 也和日常生活一样,在半导体领域中绝大多数都是湿法清洗,占比超90% 所谓“湿法清洗”,简单理解就是依据不同的工艺需求,调配不同的化学药液对晶圆表面进行清洗,以去除各种杂质;和日常生活不同的是,还会用超声波、加热、真空等技术手段...
2022年上半年约占去年全年新签订单的74%,从近三年新签订单金额来看,随着半导体代工制造企业扩产,设备端景气度持续上升。 依据券商调研数据,2022 年上半年干法去胶、刻蚀、清洗设备国产率较高。按照国产设备中标数量从高到低排序,不同工艺设备国内厂家中标情况如下: ...