半导体器件工艺中干法刻蚀技术的进展.pdf,维普资讯 1口93卑 妇.3 第3期 1993 }工芏艺研究。22t一Ji1 。…～。 I 半导体器件工艺中干法刻蚀技术 的进展 / ] 李建中 3 · I (国家光 电子工艺 中t 中国科 学院半导体研 究所 北京912t~箱 100083) M 【摘要】本文首先对干
半导体纳米线制备中干法刻蚀技术的研究
书籍类型:Epub+Txt+pdf+mobi 创建日期:2023-10-23 07:10:03 发布日期:2024-11-17 连载状态:全集 书籍作者:索斯藤·莱尔 ISBN:9787111734260 运行环境:pc/安卓/iPhone/iPad/Kindle/平板 内容简介 集成电路制造向几纳米节点工艺的发展,需要具有原子级保真度的刻蚀技术,原子层刻蚀(ALE)技术应运而生。《半导体干法...