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化学机械抛光(CMP)设备是一种在半导体制造、光学元件加工等领域广泛应用的精密设备。它通过化学腐蚀和机械摩擦的复合作用,实现对材料表面的高精度抛光。 一、化学机械抛光设备的基本原理 化学机械抛光设备结合了化学腐蚀和机械去除两种技术。在抛光过程中,设备会先使用特制的抛光液对...
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