宁波前湾新区搞了个大新闻，冠石半导体光掩模版项目投产了，速度快的让人咂舌。不到两年，10个亿砸下去，直接把“底片”给造出来了。这事儿，听起来是不是有点像“别人家的孩子”总是那么优秀？光掩模版是啥？说白了，就是芯片制造的“母版”，没了它，巧妇也难为无米之炊。咱们国家这玩意儿长期依赖进口，卡脖子卡得死死的。现在
金融界2025年3月19日消息，国家知识产权局信息显示，泉意光罩光电科技（济南）有限公司取得一项名为“一种光掩模版夹具及光掩模版清洗机”的专利，授权公告号CN 222625703 U，申请日期为2024年5月。专利摘要显示，本申请提供一种光掩模版夹具及光掩模版清洗机，涉及光掩模版加工技术领域。该光掩模版夹具包括：基座和...
1. 制造材料不同 光掩模版制造材料为透明玻璃或石英基板和光刻胶,而金属掩模版制造材料为金属薄膜和掩膜。 2. 制造工艺不同 光掩模版制造采用的是光刻技术,而金属掩模版制造采用的是金属制造工艺。 3. 应用场景不同 光掩模版广泛应用于半导体工艺中,如芯片制造、液晶显示器制造等;而金属掩...
金融界2025年4月1日消息，国家知识产权局信息显示，合光光掩模科技（安徽）有限公司申请一项名为“光掩模版缺陷检测方法、系统及计算机可读介质”的专利，公开号CN 119738419 A，申请日期为2024年12月。专利摘要显示，本发明提供了一种光掩模版缺陷检测方法、系统及计算机可读介质，属于光掩模版领域。该光掩模版缺陷检...
宁波冠石半导体是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业，企业主要从事45—28纳米半导体光掩模版的规模化生产，是现阶段国内稀缺的独立第三方半导体光掩模版企业。自2023年4月份落地前湾新区以来，宁波冠石半导体加速推进项目进展，同年5月与宁波前湾新区签署投资协议，10月项目正式开工建设。2024年1月厂房封顶，7月首台...
光掩模版，被誉为“光刻工艺的印相底片”，在半导体制造领域扮演着举足轻重的角色。它不仅是确保复杂几何图形能够精准转移到光致抗蚀掩蔽层的核心工具，更涉及一系列繁复且精密的生产工艺流程。这些流程不仅步骤繁多，更要求每一环节都进行精细的控制与管理，以确保最终产品的精度与稳定性。接下来，我们将深入剖析光掩模...
光掩模版是我国集成电路自主发展的关键短板之一,也是关乎国家安全和信息安全的基础领域。光掩模版行业的技术和资金壁垒高,市场、关键设备等均被美日等国高度垄断,近年来在美西方对我国集成电路常态化、精准化打压限制背景下,我国光掩模版行业被重点限制,属于我国集成电路领域的关键“卡脖子”环节。随着我国在新形势下对...
宁波冠石半导体致力于光掩模版的研发与生产，其产品在微电子制造领域广泛应用。随着全球半导体产业的发展，光掩模版成为推动技术创新的关键工具。此前，这一高科技产品主要依赖进口，实现光掩模版的国产化具有重要意义。▲ 项目成就及影响 从2023年5月16日签约，到同年10月1日开工，再到2024年1月27日结顶，宁波冠石...
1、光掩模版的用途与分类光掩模版一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩模图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上，是光刻工艺中最重要的耗材之一 如图，光掩模版材料成本占到半导体芯片材料总成本的13%左右。（资料来源：国际半导体产业协会）光掩模版的作用是...
#宁波这个光掩模版项目通线# 今天,位于宁波前湾新区的宁波冠石半导体光掩模版制造项目通线量产。光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版,其功能类似于相机的“底片”。作为半导体产业链上游重要的原材料之一,光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前,我国高精度半导体光掩模版...