晶合集成获得发明专利授权：“一种光学临近校正方法”证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光学临近校正方法”，专利申请号为CN202510128108.7，授权日为2025年4月25日。专利摘要：本发明提供了一种光学临近校正方法，应用于半导体技术领域。在本发明中，针对
金融界2025年4月26日消息，国家知识产权局信息显示，合肥晶合集成电路股份有限公司取得一项名为“一种光学临近校正方法”的专利，授权公告号 CN 119556521 B，申请日期为2025年2月。天眼查资料显示，合肥晶合集成电路股份有限公司，成立于2015年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。...
光学临近校正（Optical Proximity Correction，简称OPC）是半导体制造过程中的一项关键技术，用于改善光刻过程...
根据QYResearch头部企业研究中心调研,全球范围内光学临近校正(OPC)软件生产商主要包括Brion (ASML)、KLA、Mentor (Simens)、Synopsys、Samsung、Anchor Semiconductor、GenISys GMBH、武汉宇微光学、墨研计算、深圳国微芯等。 2022年,全球前五大厂商占有大约82.3%的市场份额,市场高度集中。目前,全球核心厂商主要分布在欧洲。
22、本发明提供了一种光学临近校正方法,包括:提供一目标版图,包括多个主图形,基于相邻所述主图形之间的间距长度,筛选出间距长度满足预设范围的多个主图形,以形成目标主图形组,在所述目标主图形组中的相邻主图形之间分别加入一初始辅助图形,所述初始辅助图形的宽度与所述主图形的宽度相同,去除所述初始辅助图形的部分图...
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光学临近校正(OPC) 软件全球市场总体规模 光学邻近校正(Optical Proximity Correction, OPC)是计算光刻中最重要一环,应用于光刻掩膜板优化,是保证硅片最终图像不失真的必需软件,也是决定产品良率的最重要环节。反演光刻技术(Inverse Lithography Technology, ILT)也叫逆向光刻技术、反向光刻技术,是新一代的计算光刻技术...
光学临近校正(OPC) 软件行业市场分析是通过对行业所处的市场环境、政策背景、竞争格局的分析,判断光学临近校正(OPC) 软件行业在限定时间内是否有市场,以及采取怎样的营销战略来实现销售目标或采用怎样的投资策略进入市场。 光学临近校正(OPC) 软件行业市场分析是通过对行业所处的市场环境、政策背景、竞争格局的分析,判断...
中国光学临近校正(OPC) 软件行 业市场规模及投资前景预测分析 报告 博研咨询&市场调研在线网 北京博研智尚信息咨询有限公司中国光学临近校正(OPC) 软件行业市场规模及投资前景预测分析报告 中国光学临近校正(OPC) 软件行业市场规模及投资前景 预测分析报告 正文目录 第一章、中国光学临近校正(OPC) 软件行业市场概况.....
在分析光学临近校正(OPC) 软件行业竞争格局时,我们通常会使用行业集中度这一关键性数据指标来进行分析。行业集中度(CR)又称行业集中率或市场集中度,是指光学临近校正(OPC) 软件行业相关市场内前N家最大的企业所占市场份额(产值、产量、销售额、销售量、职工人数、资产总额等)的总和。