1.高分辨率:紫外光的短波长使得光刻图案可以获得更高的分辨率,从而实现更小尺寸的芯片结构。 2.平面波前:紫外光刻镜头需要保持图案的平面波前,以确保图案的投影在整个芯片表面上都是均匀的。 3.大视场:紫外光刻镜头通常需要具有较大的视场,以便在单次曝光中覆盖整个芯片区域。 4.低畸变:镜头设计需要尽可能减小像差和畸变,以
从上面的分析能看到,DUV镜头仿真设计上的难度其实不是特别大,从双高斯入手,一段段分裂透镜,改进足够久后总可能得到一个不错的结构形式。所以很明显,光刻机镜头的最大难度不在设计,而在于工艺实现。 首先,是材料:这么一组镜头需要高质量的合成石英玻璃,玻璃熔炼又一直是个有玄学的工艺,要降应力、提纯度、去气泡条...
三.透射式光刻物镜: SYNOPSYS 的 DSEARCH 功能可以直接从零开始搜索初始结构。 由于光刻物镜的镜片数非常多,可以通过搜索前后两部分的结构,再通过拼接优化的方式进行设计。 这是光刻镜头的前半部分以及搜索的 DSEARCH 文件,输入的参数包括物方系统定义、元件数、F数、总长、后焦、材料、边界条件等。搜索这样一个11...
由于光刻物镜的镜片数非常多,可以通过搜索前后两部分的结构,再通过拼接优化的方式进行设计。 这是光刻镜头的前半部分以及搜索的 DSEARCH 文件,输入的参数包括物方系统定义、元件数、F数、总长、后焦、材料、边界条件等。搜索这样一个11片全新的镜头所需要的时间不到5分钟。 宏文件和镜头文件 得到十个初始结构从中选...
EUV光刻系统: 结构组成: Illuminator:EUV辐射源及反射照明系统 Projecting Lens:微缩投影反射镜组 这两组光学系统示意图如下图: 照明系统暂不讨论,本文先介绍微缩投影光学系统-Projecting Lens 设计限制: 波长:EUV的波长范围大致上为5-30nm,实际ASMLEUV光刻机使用13.4-13.5nm。ASML官网-TWINSCAN NXE:3400BEUV光刻机...
课程四十八:从初始结构开始设计的微光刻透镜 你现在使用的电脑有一个中央处理器,它的晶圆片是用一个非常复杂的镜头曝光加工而来的。这类镜头可能含有20或30个以上的镜片组成,是世界上最精细的镜头。如果你想更好的学习光学设计,这将是一个好的学习例子。
DMD光刻投影镜头畸变曲面设计 DMD光刻投影镜头畸变曲面设计 学习材料 1 1.zemax学习简介2.DMD光刻投影透镜成像分析3.产生特别畸变的曲面的设计、分析4.总结 学习材料 2 y A(0，i,0)B（0，i,z）C（0，i,z）z x L L 物面 投影透镜 像面 学习材料 3 学习材料 4 学习材料 5 学习材料 6 学习材料 ...
主营商品:显微镜、接触镜、椭球碗、璃球罩、标准光源、紫外物镜、精密物镜、平凸透镜、显微物镜、匀光器件、传像光纤、大功率激光、荧光内窥镜、望远镜系统、抛物面反射镜、匀光测试工装、照明光学设计、离轴反射系统、半导体照明光纤 进入店铺 全部商品 16:50 l** 联系了该商品的商家 17:51 h** 联系了该商品...
光栅光刻镜头是光刻系统的重要组成部分。目前国内外大多数传统透镜如厚度较厚,也会存在较为严重的色差,透镜的有效焦距过短,较厚的透镜也会占据较大的空间等问题,菲涅尔透则不同,菲涅尔透镜是去掉了直线传播的部分,只保留发生折射的曲面,省下了大量材料,与传统的透镜
材质: 光学玻璃 透镜类型: Tir棱镜 透镜 镜头 棱镜的类型: 按客需定制 形状: 按客需定制 外形尺寸: 按客需定制 适用范围: 光刻机等光圆检测设备,3D打印,测距设备 装箱数: 常规 型号: 激埃特giai 规格: 常规 商标: 激埃特giai 包装: 真空包装 产量: 100 “南京TIR棱镜光刻机镜头设计定制”详细介绍 南京...