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PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是最常见的正性电子束光刻胶之一。虽然是电子束光刻胶,但是本身不具有光敏性,它是一种聚合物。未加工状态是固体粉末,可以溶解在氯苯、二氯甲烷中,形成液态的可旋涂的物质。 什么是电子束光刻? 电子束光刻(EBL)是一种无掩模光刻技术,与传统的UV,DUV,EUV光刻...
PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是最常见的正性电子束光刻胶之一。虽然是电子束光刻胶,但是本身不具有光敏性,它是一种聚合物。未加工状态是固体粉末,可以溶解在氯苯、二氯甲烷中,形成液态的可旋涂的物质。 什么是电子束光刻? 电子束光刻(EBL)是一种无掩模光刻技术,与传统的UV,DUV,EUV光刻不同,电子束光刻利用波长更短的...
PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)和Copolymer(共聚物,如MMA或MMA和MA的共聚物)是最常用的电子束光刻胶之一。PMMA是第一款被发现可用于电子束光刻的聚合物,是一种标准的正性电子束光刻胶。它具有高分辨率(<10nm)和高对比度,但灵敏度较低(约为100uc/cm2 @20kV)。与大部分电子束光刻胶一样,其临界剂量与加速电压成正相关...
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光刻胶 HD 4100系列 负性PI 聚酰亚胺 锐材半导体 质量保证 性价比高 ￥6500.00 获取底价 苏州锐材半导体有限公司 商品描述 价格说明 联系我们 获取底价 商品描述 价格说明 联系我们 产品类型 标准品 产品等级 优级纯GR 有效成分含量 99% 用途范围 广泛 存储条件 冰箱储存 封装 瓶装 可售卖地 全国 产...
1，抗等离子体刻蚀能力差，不如大部分的UV系列光刻胶，尤其在干法刻蚀中与SiO2的选择比仅约为1:1。2，热稳定性较低，在较高温度下容易软化或分解。为什么PMMA的抗等离子体刻蚀能力比光刻胶差？这个需要从二者的结构入手。PMMA的分子链是直链，缺乏耐蚀性较强的环状结构或芳香族基团，等离子体刻蚀中常用的氧气、...
PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是最常见的正性电子束光刻胶之一。虽然是电子束光刻胶,但是本身不具有光敏性,它是一种聚合物。未加工状态是固体粉末,可以溶解在氯苯、二氯甲烷中,形成液态的可旋涂的物质。 什么是电子束光刻? 电子束光刻(EBL)是一种无掩模光刻技术,与传统的UV,DUV,EUV光刻不同,电子束光刻利用波长更短的...
PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)和Copolymer(共聚物,如MMA或MMA与MA的共聚物)是最常见的电子束光刻胶之一。PMMA是第一种被发现可用于电子束光刻的聚合物,是一种标准的正性电子束光刻胶。它具有高分辨率(<10nm)和高对比度,但灵敏度较低(约为100uc/cm² @20kV)。PMMA的灵敏度与其相对分子质量有关,相对分子质量越大,...