1.紫外光刻胶:主要使用在半导体制造过程中,因其优异的分辨率和良好的成本性能而备受青睐。 2.电子束光刻胶:主要适用于高精度的半导体加工,在成本方面相对较高。 3.XR光刻胶:相对于电子束光刻,XR光刻有着更丰富的选择,可适应于更不同的工艺需求。 三、光刻胶的作用 光刻胶在半导体...