光刻胶是制作芯片的关键材料之一,是一种光敏聚合物,在光的作用下发生化学反应,从而形成芯片的各种图形和线路。而在这个过程中,重要的一步就是要用光刻胶溶剂去除不需要的胶层,以便继续进行下一步制作工艺。 光刻胶溶剂在去除光刻胶过程中起着至关重要的作用,可以彻底去除不需要的光刻胶,同...
溶剂在光刻胶中发挥着多重作用。首先,溶剂是光刻胶中各成分的载体,帮助各成分在光刻胶中均匀分布。其次,溶剂在光刻过程中影响着光刻胶的流动性、粘附性和干燥速度,从而影响到光刻胶的涂布效果和光刻精度。此外,溶剂的挥发性还会影响光刻胶的固化速度和固化程度,进而...
光刻工艺流程中后烘的作用是()。A.提高光刻胶和表面的黏附性B.平滑光刻胶侧壁C.蒸发PR中所有有机溶剂D.消除驻波效应
晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。 A. 除去光刻胶中剩余的溶剂 B. 增强光刻胶对晶片表面的附着力 C. 提高光刻胶的抗刻蚀能力 D. 有利于以后的去胶工序 E. 减少光刻胶的缺陷 相关知识点: 试题来源: 解析 A,B,C,E 反馈 收藏