光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask/Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上1。 二、光刻掩膜版的构成 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成1。 快速访问 负性光刻胶 - 玻尔...
光学掩膜版,英文名MASK,是光刻工艺必备的半导体材料,也是GPU核心材料之一。在半导体材料中占比第二大,主要用于集成电路,FPD,PCB,MEMS等等,基本结构为底板+感光胶,生产工艺复杂,技术门槛极高2、传统芯片使用的掩膜版为10-30块,是核心必备品,算力需求的增大,掩膜版的需求量同比增大。以英伟达H100为例,H100所需要的掩...
光刻版实现空间的替代定向合成是使用数字的镜子来直接光到芯片 (数字光处理) 上的特定位置。 翻译结果4复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 对光掩膜的一个选择达到的空间被指挥的综合是使用一个数字式镜子指挥光到微阵列的(处理数字式的光具体地点)。 翻译结果5复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 ...
掩膜版又称光掩模、光罩、掩模版,英文为Photomask 、Mask或Reticle,是微电子加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。掩膜版作为图形信息的载体,通过曝光过程,将图形转移到基体材料上,从而实现图形的转移。 掩膜版缺陷检测是半导体光刻工艺中的关键环节,旨在检查掩膜版并识别修复其上的缺陷。掩膜版作为光刻工艺中至关重...
a他是你的表弟吗 He is your younger male cousin [translate] ainoculum 接种物 [translate] a随便,看你的意思 Casual, looks at your meaning [translate] a光刻是高科技版本的照相术 正在翻译,请等待... [translate] 英语翻译 日语翻译 韩语翻译 德语翻译 法语翻译 俄语翻译 阿拉伯语翻译 西班牙语翻译 ...
CSET:2024极紫外光刻(EUV)技术的兴起及其对未来新兴技术的启示示研究报告(英文版)(47页).pdf,点击即可下载。包含的报告内容,文档格式为PDF,大小1.27MB,页数47页,字数约86040字,欢迎会员下载
光刻 1. By using the photolithograph and coating technology, the metal mesh film on IR substrate is made, the line width of metallic mesh less than 10μm, the period is about 350μm. 介绍了利用光刻和镀膜技术 ,在红外基片上制作线条宽度小于 10 μm ,周期约 35 0 μm的金属网栅。
2) deep uv lithography 远紫外线光刻3) DUV lithography 远紫外光刻4) Deep?UV resist 远紫外光刻胶5) extreme ultraviolet lithography 极端远紫外线光刻6) far ultraviolet radiation 远紫外线 例句>> 补充资料:紫外光刻胶 分子式:CAS号:性质:用紫外光作曝光光源的光刻胶。一般是指分光感度波长为300...
玻璃光刻版 5) photoengraving[英][,fəutəuin'greiviŋ] [美][,fotoɪn'grevɪŋ] 光刻,照相版 6) phase-shifter lithography on quartz mask 石英版移相光刻 补充资料:刻版 1.见"刻板"。 说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
照相平版印刷;光刻 2) photolithography[英][,fəutəli'θɔgrəfi] [美][,fotolɪ'θɑgrəfɪ] 光刻法;照相平板印刷 3) photolithography[英][,fəutəli'θɔgrəfi] [美][,fotolɪ'θɑgrəfɪ] 照相平版印刷术 ...