光刻版又称掩模版(mask或reticle),是光刻工艺中关键部件之一。按设计图形与实际图形尺寸比例来分,可分为普通掩膜版(1:1)及倍缩式掩膜版,详见下表。 2.光刻版的材质 光刻版主要由基板和遮光膜两个部分组成。基板分为树脂基板和玻璃基板,遮光膜分为乳胶和硬质遮光膜两种。目前主流的光刻版是石英光刻版和苏打光刻...
光刻明板,大面积透光而图形区不透光,通常应用于制备金属;光刻暗板,大面积不透光、图形区透光,通常应用于刻蚀。通过精确设计和制作光罩,可以实现复杂图案的曝光和转移。 光刻版的制备流程 常规光刻版通常采用激光直写技术,首先在石英玻璃或者苏打玻璃上通过溅射或者电子束蒸...
光刻版 定制 品牌 华诺激光 鑫瑞格 长善精密 鸿燊旺 华诺恒宇 更新时间:2024年12月17日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 已核验企业 安心购 查看详情 ￥50.00/件 北京 不锈钢光刻标定板光学铬板镍片叉指电极掩膜版厂家精密加工定制 全自动 华诺激光品牌 北京华诺恒宇光能科技有限公司 5年 查看详情 ...
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1. Dark区域（暗区）：在光刻版上的dark区域，表面被涂覆了一层光刻胶。这种光刻胶能够吸收紫外线，防止曝光光源透过并影响到下面的基底材料。因此，在光刻过程中，dark区域保护下的区域不会被光束照射，从而在随后的步骤中保持未暴露的状态，形成所需的图案。2. Clear区域（亮区）：相对地，clear区域...
光刻版管理规范 一、适用范围 红光事业部光刻站所有员工 二、现使用光刻版介绍（版号）正版（二刻）：负版（一刻）：5.9mil：HG091101 5.9mil：6.2mil：HG091101 6.2mil：6.8mil：HG091101 6.8mil：7.5mil：HG091101 7.5mil：8.5mil：HG091101 8.5mil：三、使用规范 1、员工在...
光刻版（Photomask）的形成方法与流程如下：1.制作基底：首先，根据设计要求选择合适的基底材料，如石英玻璃或聚合物。然后，将基底进行清洗和抛光，以确保表面平整和清洁。2.电子束曝光：使用计算机辅助设计软件（CAD）来设计光刻版中的图案。将设计好的图案转化为数字化的信息，然后使用电子束曝光设备，通过控制电子束...
光刻版主要由基板和遮光膜两个部分组成。基板可以是树脂基板或玻璃基板,其中主流的光刻版采用玻璃基板,如石英光刻版和苏打光刻版。遮光膜则分为乳胶和硬质遮光膜两种。光刻版的图形标识和结构对于集成电路的制造精度和效率也具有重要作用。 二、光刻版的制...
1. 反射光刻:接触式光刻机使用的光刻版是反射模式影像版,即通过材料的反射将影像呈现。 2. 稳定性好:接触式光刻机使用的光刻版具有较好的稳定性和耐用性,可以反复使用。 3. 成本较高:由于光刻版的制作工艺和材料的要求较高,所以光刻版的制作成本相对较高。 二、接触式光刻机...
光刻版，作为光刻技术的核心工具，负责控制光线传输。通过光照和显影等工序，它能在材料表面雕琢出微米级的精美图案，从而实现对微纳结构的精确制造。其组成也相当考究，通常包括高透光率的基板、吸光率高的遮光材料、以及旨在减少反射和散射、提升图案清晰度的抗反射层。此外，为增强光刻版的耐用性，还可选择添加保护...