光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 李美萱 1,2,王美娇 2,王丽 1,冷雁冰 1,董连和 1 【摘要】在超大规模集成电路中,为了实现 NA=1.35,波长 193 nm 处分辨率达 到 45 nm 的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定 公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的...
光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 优质文献 相似文献浸没式光刻照明系统中会聚镜的设计及公差分析 为了实现掩膜面的均匀照明, 采用非球面技术对浸没式光刻照明系统中会聚镜进行了设计, 并对影响系统远心度的误差源进行了分析.设计的会聚镜数值孔径的一致性偏差在0.2%... 李美萱,董连和 - 《应用光学》 被...
光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 摘要:在超大规模集成电路中,为了实现NA=1.35,波长193nm处分辨率达到 45nm的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODEV软件设计了复眼透镜对引起照明不均匀性的因素进行分析,结合...