其优点在于可以很方便的制备各种奇异的三维结构；也可以制备继承原始形貌结构的多孔材料。但缺点是浪费材料，将大尺寸材料刻蚀成小尺寸纳米材料，剩余材料都浪费了；同时对目标材料的微观形貌有所限制，并不能通过控制原子或离子间的距离来调控形貌。现在世界上的半导体基本上都是使用光刻技术生产，光刻技术生...
简述三种成网方法优缺点比较。 点击查看答案 第5题 以下几种光刻方法中,属于非光学曝光的是 A.电子束光刻 B.离子束光刻 C.X射线光刻 D.浸润式光刻 点击查看答案 第6题 简述空间数据格式转换的内容和三种方法以及优缺点比较 点击查看答案 第7题 简述延迟分支方法中的三种调度策略的优缺点。 点击查看答案 ...
直写式电子束光刻在产能上的瓶颈使得它在微电子工业中一般只作为一种辅助技术而存在,主要应用于掩膜制备...
写下晶体外延的意义,列举三种外延生长方法,并表明各自的优缺点。得出光刻的促进作用,光铸有哪两种曝光方式。