? 硅片上的电路元件图形都来自于版图,因此掩膜板的质量在光刻工艺中的扮演着非常重要的角色。 ? ?1、掩膜板的分类: ? ? 光掩膜板(Photo Mask)包含了整个硅片的芯片图形特征,进行1:1图形复制。这种掩膜板用于比较老的接近式光刻和扫描对准投影机中。 ? ? 投影掩膜板(Reticle)。只包含硅片上的一部分图形(例如...
1、光刻工艺 (4) 掩膜板 /光罩xixi78 发表于 : 2008-5-06 19:56 来源 : 半导体技术天地掩膜板 / 光罩( Photo Mask/Reticle )硅片上的电路元件图形都来自于版图,因此掩膜板的质量在光刻工艺中的扮演着非常重要的角色。1 、掩膜板的分类:光掩膜板( Photo Mask )包含了整个硅片的芯片图形特征,进行1:1 图形...
光刻板制作工艺灰尘颗粒在掩膜板盒打开的情况下不准进出掩膜板室maskroom在存取掩膜板时室内最多保持2因为掩膜板在整个制造工艺中的地位非常重要 光刻工艺(4)---掩膜板/光罩 xixi78发表于: 2008-5-06 19:56来源:半导体技术天地 掩膜板/光罩(Photo Mask/Reticle) 硅片上的电路元件图形都来自于版图,因此掩膜板的质...
应用上述光刻板进行晶圆光刻平边补偿的方法,包括以下步骤: (1)计算光刻对准工艺需要的补偿量Xμm; (2)调整光刻机左、右两侧的显微镜,使左、右两侧的显微镜均能够观察到光刻板上的标尺图形,再调整晶圆位置,使左、右两侧的显微镜也能够分别观察到晶圆平边上两处设定的位置; (3)微调晶圆位置,将左侧显微镜观察下的晶...
应用上述光刻板进行晶圆光刻平边补偿的方法,包括以下步骤: (1)计算光刻对准工艺需要的补偿量Xμm; (2)调整光刻机左、右两侧的显微镜,使左、右两侧的显微镜均能够观察到光刻板上的标尺图形,再调整晶圆位置,使左、右两侧的显微镜也能够分别观察到晶圆平边上两处设定的位置; (3)微调晶圆位置,将左侧显微镜观察下的晶...
应用上述光刻板进行晶圆光刻平边补偿的方法,包括以下步骤: (1)计算光刻对准工艺需要的补偿量Xμm; (2)调整光刻机左、右两侧的显微镜,使左、右两侧的显微镜均能够观察到光刻板上的标尺图形,再调整晶圆位置,使左、右两侧的显微镜也能够分别观察到晶圆平边上两处设定的位置; (3)微调晶圆位置,将左侧显微镜观察下的晶...