曝光波长 i-line 365nm 光罩尺寸 6英寸 基板尺寸 515*510 mm 叠加精度 ≦200mm 主体尺寸 3000*4800*2700mm 品牌 佳能 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算...
服务 品质保障 · 资金安全 · 售后无忧 正品保障 描述相符 72小时发货 7天包换 破损包退 物流 山东 青岛 至全国全国包邮 i-lineStepperi线光刻机NSR-2205i11D 台 190.06万元 100台可售 1台190.06万元已选清单 支付方式 支付宝微信银行转账 立即订购 加入购物车 商家电话 在线咨询 ...
曝光波长 i-line 365nm 光罩尺寸 6英寸 晶圆尺寸 12英寸 叠加精度 ≦0.15µm 主机尺寸 2300*3340*2700 品牌 佳能 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价...
8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售。
8月31日,尼康宣布推出新一代5倍缩小的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”,可用于制造功率、通信器件及MEMS器件等,并且完全兼容现有的尼康i-line曝光系统。 据官网资料,与现有的尼康i-line光刻机相比,NSR-2205iL1具有出色的性价比,无论何种晶圆材料,都可以优化各种半导体器件的生产。该设备预计将于2024年夏季上...
芯榜消息：日本佳能（7751）发布财务业绩简报。佳能下一财年用于功率半导体的i-line光刻机的预测显着增加。芯榜分析全球对功率半导体的资本投资可能会继续。从安全的角度来看，每个国家都在重复进行资本投资。产能将过剩，但对设备制造商来说将是顺风车。光刻机最核心的技术就是光源，光刻机按光源技术先进次序可分为 ...
一、i-line光刻机的机制 i-line光刻机采用的是i线光源,波长为365纳米。它通过以下几个步骤实现光刻的机制: 1. 掩膜对准:首先,在光刻胶上覆盖一层掩膜,掩膜上有芯片的电路图案。将掩膜放置在与光刻胶相接触的位置,并通过对准系统进行对准,确保掩膜上的图案与光刻胶的位置完全匹配。 2. 光刻胶涂覆:将光刻...
25年来重大更新!尼康推出5倍缩小的i-line步进式光刻机NSR-2205iL1 随着科技的飞速发展,光刻技术在微电子领域的重要性日益凸显。近日,尼康公司推出了一款名为NSR-2205iL1的i-line步进式光刻机,这是自25年前推出第一代光刻机以来,尼康在光刻技术上的重大突破。
产品名称 i-line光刻机 类型 光刻机 品牌 Nikon 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以订单结算页价格为准。
作为当今世界上最先进的光刻机之一，iline光刻机在半导体行业中扮演着举足轻重的角色。一、技术特点1. 高精度定位技术iline光刻机采用了最先进的激光干涉测量技术和高精度位移传感器，实现了对晶圆的高精度定位。在制造过程中，晶圆需要被精确地放置在光刻机的工作台上，以确保光刻图案的精度和稳定性。通过高精度...