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光刻机的主要零部件包括透镜、光刻片、感光胶、光源、平台、透明基板等。 一、透镜 光刻机中最重要的部件之一是透镜,透镜的质量影响着曝光的精度和分辨率。光刻机通常使用凸透镜将光线聚焦到感光胶表面,将图形传输到光刻片上。光刻机中的透镜通常由石英制成,具有优异的耐热性和光学透明性,以确保光的聚焦准确...
光刻机的关键组件主要包括曝光光源、掩膜、高精度镜头、自动对准系统以及智能控制系统。曝光光源是光刻机的能量来源,通过发出高强度的紫外线,使光刻胶发生化学反应,形成所需图案。掩膜则承载着光刻图案,其质量直接关乎成品的精度与成品率。高精度镜头负责将光源聚焦至硅片,其光学性能决定了成像的清晰度与精度。自动对准...
为何这样表述呢？实际上，28nm光刻机的关键部件已经实现了90%的完全国产化，比如高精度光学镜头、浸没系统、激光源等都已自主研发。甚至连研发成功的 DPP-EUV 光源技术——EUV光刻机的重要核心部件，以前一直受制于国外，这一技术的突破为我国高端光刻机的进步带来了机遇。当然，这与荷兰的光刻机仍无法相提并论，...
这台设备的研发历程可谓艰难重重，但成果令人瞩目：设备90%以上的核心零部件实现自主化，可通过多重曝光技术支持14纳米乃至7纳米制程。这一技术突破不仅满足了国内市场的需求，还开始向国际市场出口。相比于ASML设备，国产光刻机具备显著的性价比优势。其制造成本仅为同类产品的70%，维护成本更低至45%。这一成功标志着...
光刻机的主要零部件是什么 03月23日 一、曝光光源 曝光光源是光刻机中最重要的零部件之一,它的作用是提供特定波长的光来曝光光刻胶。在传统的UV光刻机中,曝光光源通常采用汞灯、加压汞灯、汞-xenon灯或xenon氙弧灯等,而在现代的深紫外光刻机中则采用Excimer激光器作为曝光光源。 二...
任何一家半导体巨头都离不开产业链全球化，ASML也一样。如果没有来自全球的供应支持，EUV光刻机同样造不出来。当然，ASML掌握量产组装能力也证明实力十分强劲。别的厂商也能从各国手中采购零部件，却未必能造出EUV光刻机。中国供应商虽进入ASML的产业链，可真正占到核心部分的并不多。如果对其断供，会有什么后果呢...
更让人提气的是，先进光刻机的关键零部件——像光学镜头、气浮导轨、激光干涉仪等，超过90%都能自主生产。这放在几年前，根本就是天方夜谭。这个成就背后，是无数个科研团队和工程师熬的夜、吃的苦，是真正的“干出来的”。曾经，我们视ASML的技术为巅峰，而如今，我们用自己的技术迈出了坚实一步，这才是最...
这个突破解决了光刻机最核心的光学部件瓶颈，让国产光刻机在成本和性能上都占据了优势。不仅如此，国内超过10所高校和科研机构参与了光刻机的技术研发，涵盖光学设计、激光技术和机械控制等多个领域。这种“产学研”协同创新模式极大地提升了研发效率，形成了从技术攻关到产业化的完整生态链。可以说，SSA800-10W的成功...