光刻(photolithography)就是将掩模版(光刻版)上的几何图形转移到覆盖在半导体衬底表面的对光辐照敏感薄膜材料(光刻胶)上去的工艺过程。 光刻系统的主要指标包括分辨率R(resolution)、焦深(depth of focus,DOF)、对比度(CON)、特征线宽(critical dimension,CD)控制、对准和套刻精度(alignment and overlay)、产率(throughout)以及...
EUV技术也叫紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography），它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻...
光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。 利用***发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其...
光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。 这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光...
光刻，简单来说，是一种通过光学或化学方法，在硅片上精确地刻画和复制微小图案的技术。其基本原理是利用特定的光源通过掩模版对光敏材料进行选择性地曝光，随后通过显影等化学处理，将掩模版上的电路图案复制到硅片表面的光敏材料上，形成微纳结构。这些结构是集成电路的基础组成部分。随着技术的不断进步，...
光刻(track)是半导体集成电路制造过程中一个至关重要的工艺步骤。其基本原理是利用光源和掩模制造电路图形。 光刻track则是指用于光刻的设备和设施。光刻track具有清洗、去除光刻胶、曝光、显影、后曝光退火等多个功能。这些功能通过精密的仪器、设备和化学试剂来实现，确保光刻加工的高精度和高质量。光刻...
光刻这个概念，有广义和狭义之分。在狭义层面，就是用光去「复印」集成电路图案，这也是我们常说的光学...
光刻,就是讲掩膜上的几何图形转移到涂在半导体晶片表面的敏光薄层材料(也就是我们说的光刻胶)上的工艺。这些几何图形确定了集成电路中的各种区域,比如离子注入区,接触窗口和引线键合区等等。但是由光刻工艺造成的光刻胶上的图形只是电路图形的印模,为了产生电路图形,我们还需要再一次将光刻胶上的图形转移到光刻胶下...
什么是光刻技术? 在回答这个问题之前,我们先从集成芯片说起。集成芯片应用于许多领域,生产流程也较为复杂。在集成芯片生产流程中,包括提纯、制备、光刻、封装。其中最关键的一环就是光刻。 而光刻技术就是指集成电路制造中利用光学、化学反应原理及化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶...