高数值孔径投影物镜是突破半导体制程物理极限的关键。通过非球面设计、像差矫正及材料创新,设备已实现纳米级图形转移。建议企业优先选择具备多变量优化能力的物镜系统,并加强工艺协同设计,以支撑3nm以下先进制程需求。
光刻投影物镜是光刻机中的关键部件,其作用是将照明模组发射出的1阶衍射光收进物镜内,再把掩膜版上的电路图案缩小,聚焦成像在晶圆上,并且还要补偿光学误差。光刻投影物镜主要由多枚镜片组成,其结构型分为折射式和折反式。 二、光刻投影物镜的特点 光刻投影物镜的特点包括...
在此期间,建议使用NA值较低的投影物镜,并采用较宽的线间距。成本更低的 EUV 光刻技术可能会使用多重图案化技术实现更窄的线宽。同样重要的是,双镜投影物镜系统可以提供更多的光子,有助于减少统计随机噪声问题。 如图1所示,双镜投影物镜安装在一个与紫外光刻透镜类似的管子中。极高精度的反射镜被封装在管内,形成一...
亚微米投影光刻物镜mtf的简便测定方法 亚微米投影光刻物镜mtf测定在光刻技术里意义重大。简便测定方法能有效提升检测效率与精准度。需先明确测定所需的各项仪器设备规格。光源稳定性对测定结果的准确性影响颇大。选用合适分辨率的探测器是关键一步。测定前要对光刻物镜进行全面清洁处理。不同波长的光会使mtf测定结果产生...
降低生产成本:通过提高光刻图案的精度和一致性,高数值孔径投影物镜光刻设备能够减少生产过程中的废品率和返工率,从而降低生产成本。 推动技术创新:高数值孔径投影物镜光刻设备的应用推动了半导体制造技术的不断创新和发展,为未来的芯片制造提供了更多的可能性。
高数值孔径投影物镜是光刻设备的另一个核心部件。数值孔径(NA)是衡量光学系统收集光线能力的指标,高数值孔径意味着系统能够收集更多的光线,从而提高光刻的分辨率和对比度。 现代高数值孔径投影物镜采用了复杂的光学设计和先进的材料技术,如非球面镜片和氟化物玻璃等,以减小像差和畸变,提高成像质量。此外,投影物镜还需要...
光刻投影物镜的可变光阑主要由横通槽、传动机构和光阑片组成。横通槽是光刻机中的一个空腔,用来容纳光阑片。传动机构通过齿轮和导轨系统,使得光阑片能够在横通槽内移动。光阑片通常由多个材料组成,具有不同的折射率,通过调整光阑片在横通槽内的位置,可以实现不同直径的光阑。 三、结构设计 1.光阑片材料的选择 光...
曝光系统:曝光系统包含照明系统(光源加工)和投影物镜(高分辨成像) ,这是光刻机中最昂贵最复杂的部件之一。物镜的性能决定了光刻机的线宽、套刻精度,这是光刻机的核心部件,其技术水平很大程度上代表了光刻机的技术水平。 光刻机照明与投影物镜系统的工作流程图,如图1所示。
紫外光刻投影物镜的数值孔径是衡量其光学性能的关键指标 它对光刻分辨率等方面有着决定性的作用数值孔径的大小直接影响光刻能够达到的最小特征尺寸较高的数值孔径有助于实现更精细的光刻图案其计算公式为NA = nsinθ，n是物方介质折射率，θ是最大半孔径角物方介质折射率的改变会对数值孔径产生显著影响在光刻技术中...
光刻投影物镜 /lithography projection objectives/ 最后更新2022-12-28 浏览57次 将集成电路芯片的掩模图形线条按照-0.25的微缩倍率经曝光投影后复制到硅片上的光刻机组件。是光刻机中最精密的核心部件。 英文名称 lithography projection objectives 所属学科