光刻胶是一种有机化合物,它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化,而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。 光刻胶的用途:①做硅片上的图形模版(从掩膜版转移到硅片上的图形); ②在后续工艺中,保护下面的材料(例如刻蚀或离子注入)。 光刻对光刻胶的要求:①分辨率高; ②对比度好; ③敏感度好; ④粘...