2025年3月27日上午十时，美国商务部工业与安全局将50余家中国量子计算企业列入实体清单的第24小时，中微用0.2埃米级刻蚀机的横空出世，投下震撼弹——这相当于将人类头发丝纵向劈裂30万次的精度，刷新了全球半导体设备精度天花板。0.2埃米的刻蚀精度意味着设备能以硅原子直径十分之一的误差进行雕刻，当这种精度同步作用于
中微公司介绍，该项目当前的进展是： Beta机客户端已完成沟道刻蚀（深宽 比60:1）等4道工 艺的验证，已展开大规模量产。除了上述刻蚀技术，中微公司还积极布局超低温刻蚀技术，在超低温静电吸盘和新型刻蚀气体研究上投入大量资源，积极储备更高深宽比结构 （≥90:1）刻蚀的前卫技术。多款ICP设备在先进逻辑芯片、...
北方华创财报显示，2023年和2024年，公司刻蚀设备收入分别为近60亿元和超80亿元（至于2023年之前公司每年的刻蚀设备收入，北方华创在财报中没有公布）。而在2022年至2024年，中微公司刻蚀设备收入分贝为31.47亿元、47.03亿元、72.77亿元。这可能出乎很多人的预料？因为在大家看来，中微公司在刻蚀设备领域的技术实力...
如今中微的刻蚀机被国内企业广泛采用，还逐渐在国际市场上获得认可。这些成果的背后，是技术团队的坚持，也是尹志尧的远见。他关注设备的研发，还早早开始布局国产化。芯片制造设备的核心零部件以前主要依赖进口，近年来，中微加快了零部件国产化的进程。根据公开数据，目前中微大部分设备的零部件已经实现了国产化。除了...
中微的成本优势主要来自技术创新。例如，他们独创的"双区等离子体"技术，将能源利用效率提高了35%，设备占地面积减少了40%。刻蚀之"痛"何时了？有人说，没有光刻机，再好的刻蚀机也无用。但现实是，在14nm以下工艺中，刻蚀工序的难度和重要性已经不亚于光刻。2024年，中微推出的新一代PrimoXP系列刻蚀机，在...
当全球还在热议芯片封锁时，中国有家公司已经造出能雕刻头发丝千分之一精度的刻蚀机。 中微公司最新5纳米刻蚀机拿下台积电订单，直接打破ASML垄断神话。中国半导体设备国产化率三年暴涨15倍，23%的产线开始用上自家装备。 这场科技突围战里，藏着哪些逆袭密码？在刻蚀机领域，中微公司的等离子体刻蚀设备已通过5纳米...
在中微，他带回三十多名在等离子体刻蚀技术领域同样享有盛誉的专家。经过20年的发展，中微刻蚀设备已经满足5纳米以下器件制造需求，并正在持续拓展3纳米、2纳米等更先进制程节点的技术储备。现已80多岁高龄的尹教授仍然坚守在科研一线。他用毕生精力和智慧，为东方大国在集成电路产业链上游领域取得突破贡献着力量。这...
三年后公司推出了第一代国产刻蚀机，采用了双工作台设计，效率超过了国外竞品。2017年，中微成功研发出全球首台5nm等离子刻蚀机，实现了在高端刻蚀设备上的技术突破，填补了国内在这一领域的空白。刻蚀机的技术性能直接影响了芯片的最终质量和良品率。尤其是在制程节点不断缩小的背景下，刻蚀精度成为关键因素。目前...
中微半导体刻蚀机是一种用于加工半导体材料的专用设备,其原理是利用化学反应或物理作用来将薄膜材料从半导体晶片上剥离或者改变其形貌。其主要组成单位包括高频电源、反应室、真空泵、气路控制、液路控制、温控系统、机械部分等。 二、中微半导体刻蚀机的应用领域 中微半导体刻蚀机被广泛应用于半导体、太阳能电...
中微半导体,作为业内知名的微细加工设备供应商,其刻蚀机在高宽比方面表现出色。 根据中微半导体官方发布的资料,其刻蚀机通常能够达到10:1至20:1的高宽比。这意味着,在使用中微半导体的刻蚀机进行微细加工时,可以制造出具有高度与宽度之比在上述范围内的精细结构。这一性能在半导体...