本发明公开一种高真空多源热蒸发镀膜设备,设备的结构包括机架,水路系统,真空系统,真空腔室,电气控制系统,膜厚仪,真空腔室门,温控系统和底座,真空腔室内部包含加热盘基片台,挡板,和蒸发源.本发明的真空多源热蒸发镀膜设备,可实现基片台快速降温,解决降温缓慢的问题,实现基片台温度,蒸发距离,蒸发速率,单独/顺序/共同...
1.一种高真空多源热蒸发镀膜设备,其特征在于,其结构包括机架(1)、水路系统(2)、真空系统(3)、真空腔室(4)、电气控制系统(5)、膜厚仪(6)、真空腔室门(7)、温控系统(8)和底座(9);机架(1)起到支撑作用,水路系统(2)缠绕在真空系统(3)外侧,起到降温作用,真空系统(3)与真空腔室(4)机械相连,真空腔室(...