真空蒸镀法制备薄膜不属于视线沉积技术。 一、真空蒸镀法制备薄膜的原理和特点 真空蒸镀法是利用高真空条件下物质的汽化和凝结过程,制备金属、合金和非金属材料的薄膜技术。该制备方法首先通过真空泵抽空,将反应腔体内气压降至所需的高真空状态,然后将含有要制备薄膜所需材...
一般来说,真空蒸镀法制备薄膜的步骤包括:真空系统排气、加热源升温、材料蒸发、气体在真空室内扩散、沉积在基底上形成薄膜等。 二、制备薄膜的优点 1.高纯度:真空蒸镀法可以制备出高纯度的薄膜,因为在高真空环境下,可以有效避免气体和杂质的污染。 2.高均匀性:利用真空蒸镀法可以制备出高均匀性的...
在薄膜厚度确定后,可以通过调整蒸镀时间或者调整镀膜速度来获得相应的薄膜厚度。 除了以上几个因素外,还需要注意以下问题: 1. 真空泵要定期清理或更换。 2. 在蒸镀前需要对蒸镀材料进行处理,如磨光、清洗等,以保证镀膜的质量。 3. 需要使用高纯度的气体保持真空度稳定,避免...
蒸镀氯掺杂(CH3NH3)3Bi2I9 (MBI)钙钛矿属于六方晶系,在薄膜制备时,晶体颗粒具有c轴优先生长的特性,因而很难获得平整均一的高质量薄膜。在前期研究的基础上,我们通过两步蒸镀法得到了致密无针孔的薄膜。该薄膜的可重复性不够理想,有时仍有一定量的六方片状晶粒出现,显著降低了薄膜的质量。在此基础上,我们通过...
本发明的技术方案如下:首先通过改进的Hummers法制备得到氧化石墨烯溶液;然后用棒涂法制备氧化石墨烯薄膜,通过真空蒸镀铝的方法蒸镀一定厚度的铝膜。最后将样品放入盐酸溶液中浸泡,稀盐酸和去离子水冲洗后烘干后即得到还原氧化石墨烯薄膜。 本发明的主要创新点如下:采用棒涂法可以制备大面积的氧化石墨烯薄膜,再通过真空...
蒸镀Co3O4强磁场晶粒尺寸取向为了研究强磁场对蒸镀法制备Co3O4薄膜结构影响,以提高该材料的取向性,改善Co3O4薄膜的磁学性能,该文以99.99%的Co为原料,分别在无磁场和强磁场条件下低真空热蒸镀Co3O4薄膜,采用扫描电子显微镜,X射线衍射和振动样品磁强计研究了以Si(111)为基底的Co3O4薄膜晶粒尺寸,取向和磁性能...
一种利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法,包括以下步骤: 步骤001.对蒸镀腔抽真空至2.5×10-8torr-3.1×10-8torr,然后开启腔体烘烤,烘烤温度100℃,腔体气压逐渐上升到2.8×10-7torr-3.6×10-7torr,持续烘烤腔体20-24小时后,腔内气压回到2.6×10-8torr-3×10-8torr,关闭烘烤; ...
摘要 本发明公开了一种利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法,包括对蒸镀腔抽真空至2.5×10‑8Torr‑3.1×10‑8Torr,然后开启腔体烘烤,烘烤温度100℃,腔体气压逐渐上升到2.8×10‑7Torr‑3.6×10‑7Torr,持续烘烤腔体20‑24小时后,腔内气压回到2.6×10‑8Torr‑3×10‑8Torr,关闭烘...
主要步骤如下:(1)通过改进的Hummers法将鳞片石墨制备得到氧化石墨烯溶液;(2)用棒涂法将氧化石墨烯溶液涂覆到PET基底上制备得到氧化石墨烯薄膜;(3)采用真空蒸镀工艺在氧化石墨烯薄膜上蒸镀一定厚度的铝膜;(4)将样品放入盐酸溶液中浸泡后再用稀盐酸和去离子水冲洗后烘干即得到还原氧化石墨烯薄膜。该方法可以低成本...
气相沉积法是在真空环境下,通过蒸镀的方法制备钙钛矿薄膜。此方法涉及关键设备——蒸镀设备。相对于溶液法制备,气象沉积的方法可以通过控制蒸发源的办法精确调控钙钛矿中各组分化学计量比,并且可以保证薄膜的均一性。但是真空气相沉积需要使用价格高昂的真空蒸镀设备,而且需要较久的抽真空时间,这使得薄膜的制备时间变长和...