《微电子制造科学原理与工程技术（第四版）》是2022年电子工业出版社出版的图书，作者是严利人、梁仁荣。内容简介 本书对微纳制造技术的各个领域都给出了一个全面透彻的介绍，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相...
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书还介绍了各种先进的工艺技术...
微电子制造科学原理与工程技术(第二版) 坎贝尔本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路...
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微电子制造科学原理与工程技术(第四版) 作者:(美)StephenA.Campbell(斯蒂芬· A.坎贝尔)出版社:电子工业出版社出版时间:2022年12月 手机专享价 ¥ 当当价降价通知 ¥135.10 定价 ¥159.00 配送至 北京市东城区 运费6元,满49元包邮 服务 由“当当”发货,并提供售后服务。
参考资料：《微电子制造科学原理与工程技术》一、微电子制造引论 1、IC制造的步骤2、IC制造中的单项工艺 3、微电子工艺举例 电阻分压器 二、热氧化工艺 1、二氧化硅在IC中的主要用途2、热氧化原理(Deal-Grove模型)a.主要结论b.计算热氧化工艺生长SiO2厚度的方法 3、热氧化工艺（方法）和系统4、热氧化工艺的质量...
微电子制造科学原理与工程技术 董晨阳 （中国计量大学,杭州 310018）摘 要：本文介绍了微电子制造的科学原理与工程技术。微电子制造技术涵盖了集成电路制造所涉及到的多数单项工艺，囊括了反应离子刻蚀、离子注入以及等离子体等。而对于每一种单项工艺，详细的介绍了其化学和物理原理，对用于集成电路制造的工艺设备业也...
本书深入剖析了微电子制造的核心科学原理与工程技术，涵盖了集成电路制造过程中不可或缺的多项关键工艺：光刻技术、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相沉积等。每一种工艺，我们不仅详细阐述了其物理和化学运作机制，还对应用于集成电路制造的专用设备进行了...
《微电子制造科学原理与工程技术微电子制造科学原理与工程技术》》■■物理气相淀积工艺物理气相淀积工艺(第(第1212章)章)■■外延生长工艺外延生长工艺(第(第1414章)章)■■光刻工艺光刻工艺(第(第77、、88章)章)■■刻蚀工艺刻蚀工艺(第(第1111章)章)■■金属化工艺金属化工艺(第(第1515章)章)■■工艺...