经过数年如一日的潜心钻研，中国终于在 28纳米光刻机领域实现重大突破。这台国产光刻机的诞生，意义非凡。它不仅打破了外界对“中国造不出光刻机”的偏见，实现了 90%核心零部件的自主可控，还通过多重曝光技术具备制造 7 纳米芯片的能力，如同在科技发展的地图上开启了一条全新路径，解锁了更多的发展机遇。这一...
中国光刻机实现重大突破，一直是中国人关注的焦点，从90nm至65nm，为了实现光刻机技术的突破，我们用了大约 6 年时间，然而从65nm至28nm，我们却仅仅只用了四个月的时间，这一消息震惊国人，为什么这么快？难道说14nm、7nm甚至是5nm、3nm，哪怕是2nm也用不了多久了？中国在光刻机领域实现了重大进展，65nm光刻...
面对中国网友的“自嗨”，一些外媒也坐不住了，表示套刻分辨率并非芯片制程，突破8nm制程光刻机等言论简直可笑，而8nm套刻精度相当于ASML9年前的水平！近日，我国工业和信息化部宣布了一份电子专用装备名单，其中两台光刻机正在其列，分别是套刻分辨率为25nm和8nm的氟化氩光刻机，然而一些网友误以为套刻精度就...
假如我国持续在光刻机领域发力，实现类似极紫外光刻机技术的突破，每年单单光刻机和芯片进口就能节省超过2万多亿元人民币的花费。而且这还只是自我花费的节约，有了先进的光刻机，我们还可以进行光刻机和芯片的出口。这样里外里怕不是能够为国家产出3万亿人民币的财富，换算成美元，可以排到世界各国GDP排名的第30位。
【中国光刻机突破，将会迎来巨大改变】新闻公布上未透露研发出光刻机的研究团队，有人猜测可能是上海微电子，因为它在我国实力排名第一；也有人猜测可能是中电科，因为它实力排名第二。无论如何，国产 65nm 干式光刻机已经确凿无疑，且成熟度已达到可在市场上大规模推广的水平。这表明我国 28nm 以上制程的芯片已...
国产光刻机突破28nm工艺节点，意味着中国在半导体制造领域取得了重大进展。这不仅增强了国内半导体产业的自主可控能力，也为国家安全和经济发展提供了有力保障。在未来面对外部技术封锁或制裁时，中国将能够更加从容地应对并保持自身的独立性和自主性。经济与社会影响 随着国产光刻机的量产推广和应用落地，将吸引更多的投资...
近日，中国政府宣布两款国产芯片光刻机取得“重大技术突破”，彰显了中国在半导体领域追求科技自给自足的努力。这两款光刻机据称已经实现了关键技术突破，并拥有自主知识产权。尽管尚未正式投入市场，但其研发进展无疑为中国半导体产业带来了新的希望。据工业和信息化部（MIIT）透露，其中一款深紫外线（DUV）光刻机的...
就在荷兰宣布收紧管制的整整两周后，也就是7月16日，一个令全球瞩目的消息传来。国务院新闻办公室举行新闻发布会，正式宣布我国在光刻机领域取得重大突破，已经具备了90%以上的核心技术自主可控能力。这一消息一经公布，立即引发了国内外媒体的广泛关注和报道。短短两周时间里，我国光刻机产业从最初的被动应对，...
直到最近，中国在7纳米光刻机专利上的重大突破，犹如一道曙光，照亮了半导体产业的“中国芯”之路。一、7纳米光刻机，半导体产业的制高点 1. 光刻机，半导体制造的“皇冠明珠”在半导体制造过程中，光刻机是最为关键的设备之一。它通过将电路图案投射到硅片上，形成微小的电路结构，是半导体制造中不可或缺的一环。