近日,光刻机领域的巨头荷兰ASML公司首席执行官Peter Wennink在接受媒体采访时表示,该公司有望于年内交付业界首款数值孔径(NA)为0.55的极紫外(EUV)光刻机,型号名为Twinscan EXE:5200。 目前,ASML公司已经制造出来了一部分Twinscan EXE:5000光刻机,但主要用于开发,使公司的客户熟悉新技术及其功能,真正的高数值孔径光...
英特尔已向 ASML 发出第一份采购订单，用于交付业界首个 TWINSCAN EXE:5200 系统 - 一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统 - 作为两家公司的长期 High-NA 合作框架。“英特尔对 ASML 的高 NA EUV 技术的愿景和早期承诺证明了它对摩尔定律的不懈追求。与当前的 EUV 系统相比...
今日，阿斯麦正式公布了最新的季度和全年业绩和财务信息，并宣布向英特尔交付业界首个 TWINSCAN EXE:5200 光刻机（一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统）。据悉，ASML Holding NV 在 2021 财年第四季度盈利为 17.7 亿欧元（合 20.1 亿美元）优于预期，2021 年净销售额为...
此外,官方还宣布英特尔首次订购了 ASML 的 TWINSCAN EXE:5200 系统,标志着 EUV 0.55 NA (High-NA) 引入的下一步,推动 High-NA 于 2025 年投产。 EUV 业务方面,公司在 2021 年第四季度收到了一份 TWINSCAN EXE:5000 订单(该设备在 2018 年已经收到了四份订单),2022 年初收到了下一代 TWINSCAN EXE:5200 ...
英特尔与ASML推进High-NA EUV技术，订购业界首个TWINSCAN EXE:5200系统 ASML宣布与英特尔的长期合作进入了新的阶段，双方将携手推进半导体光刻前沿技术。目前英特尔已经向ASML发出第一份采购订单，用于购买业界首个TWINSCAN EXE:5200系统。这是一种具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大...
例如，Twinscan EXE：5200的生产率超过每小时200个晶圆（WPH）。相比之下，ASML的顶级0.33 NA EUV设备Twinscan NXE：3600D的WPH为160。英特尔可能会在其18A后的制程工艺技术中采用ASML的高NA工具，而竞争对手台积电和三星将在本十年晚些时候使用它们。这些扫描仪不会便宜，据估计，每台这样的设备成本可能超过3亿美元...
除了完全不同的光学设计外,高数值孔径扫描仪还有望提供更快的光罩和晶圆平台以及更高的生产率。例如,Twinscan EXE:5200的生产率超过每小时200个晶圆(WPH)。相比之下,ASML的顶级0.33 NA EUV设备Twinscan NXE:3600D的WPH为160。 英特尔可能会在其18A后的制程工艺技术中采用ASML的高NA工具,而竞争对手台积电和三星将在...
ASML 采购TWINSCANEXE:5200 光刻机。 纽约州表示,一旦机器安装完毕,该项目及其合作伙伴将开始研究下一代芯片制造。官方声明指出 2023-12-14 08:44:18 ASML已完成先进极紫外光刻机的设计 对于阿斯麦(ASML)来说,他们正在研发更先进的***,这也是推动芯片工艺继续前行的重要动力。 ASML是全球目前唯一能制造极紫外**...
其中主要原因之一是,Twinscan EXE:5200型光刻机并不便宜,据估计,每台光刻机的成本可能超过3亿美元,实际售价可能更高。虽然芯片制造厂商普遍财大气粗,这点钱不算什么,但是这将进一步提高芯片的制造成本。 羊毛出在羊身上,最终的成本是要由代工客户来承担的,如果过早采用Twinscan EXE:5200型光刻机,到时代工费大幅涨...
ASML宣布与英特尔的长期合作进入了新的阶段,双方将携手推进半导体光刻前沿技术。目前英特尔已经向ASML发出第一份采购订单,用于购买业界首个TWINSCAN EXE:5200系统。这是一种具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,为双方长期的High-NA EUV技术合作搭建框架。