该半导体结构包括:衬底;设置在衬底上的第一隔离层,第一隔离层具有贯穿第一隔离层的隔离孔;设置在隔离孔内的第导电结构第导电结构包括填充在隔离孔底部的第一部分,以及位于第一部分上的第二部分,且第二部分的至少部分外周面与隔离孔的内壁之间存在间隙;至少填充在间隙内的第二导电结构,保证第二导电结构和第一导电结...
气氛系统:设备实现无助焊剂焊接,可充入N2/H2混合气体、HCOOH、N2等还原或保护性气体,保证焊点空洞率低于1%;H2功能可选配。 数据记录系统:具有不间断的实时监控和数据记录功能,软件曲线记录、温控曲线保存、工艺参数保存、设备参数记录、调用等; 保护系统:八项系统安全状态监控和安全保护设计(焊接件超温保护、整机温度安...
一种半导体装置可以包括:栅极结构,其包括交替地层叠的绝缘层和导电层;第一支撑件,其位于栅极结构中,每个第一支撑件包括第二沟道层;第二支撑件,其位于栅极结构中,每个第二支撑件包括阻挡层;以及接触结构,其穿过栅极结构在第二支撑件之间延伸,其中,每个接触结构连接到对应的导电层。 本文源自:金融界...
一种半导体设备包括:衬底,其包括核心区域和外围区域;第一导电图案,其包括在核心区域的衬底上方的栅极介电层和栅极电极的堆叠结构,并且包括插入在栅极介电层与栅极电极之间的界面处的高k层;以及第二导电图案,其包括在外围区域的衬底上方的栅极介电层和栅极电极的堆叠结构,并且包括覆盖栅极介电层与栅极电极之间的界面和...