在原料石墨中,在2θ=26.4°(晶格间距为0.34nm)处发现强烈的结晶峰,其对应于石墨17的(002)衍射峰。氧化后,峰在2θ=10.9°处向较低角度移动,晶格间距为0.81nm,表明氧化成功。 通过SEM,TEM和AFM分析了GO和水热还原GO的表面形貌,可以发现在水热处理之前,GO样品(图2a)显示了层压结构。通过TEM和AFM(图2e)和(图...
在原料石墨中,在2θ=26.4°(晶格间距为0.34nm)处发现强烈的结晶峰,其对应于石墨17的(002)衍射峰。氧化后,峰在2θ=10.9°处向较低角度移动,晶格间距为0.81nm,表明氧化成功。 通过SEM,TEM和AFM分析了GO和水热还原GO的表面形貌,可以发现在水热处理之前,GO样品(图2a)显示了层压结构。通过TEM和AFM(图2e)和(图...
在原料石墨中,在2θ=26.4°(晶格间距为0.34nm)处发现强烈的结晶峰,其对应于石墨17的(002)衍射峰。氧化后,峰在2θ=10.9°处向较低角度移动,晶格间距为0.81nm,表明氧化成功。 通过SEM,TEM和AFM分析了GO和水热还原GO的表面形貌,可以发现在水热处理之前,GO样品(图2a)显示了层压结构。通过TEM和AFM(图2e)和(图...