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IP-PDMS光刻胶具有高弹性特点，断裂拉伸伸长率超过240%； 低折射率特点；无生物毒性，符合ISO 10993-5 / USP 87；高柔韧性的特性，具有微观形貌的功能性表面，广泛适用于不同应用。作为有机硅基弹性体材料，IP-PDMS具有与常规PDMS相似的性能，使新型IP-PDMS光刻胶成为制作具有柔软，柔韧性和弹性特点的3D微纳结...
IP-S光刻胶 Catalog #Pkg SizePriceQuantityShopping Cart R-GKJ-00481￥ 1 结构式 基本信息产品描述参考文献相关文档 外观N/A 分子量N/A 溶解度N/A CAS号N/A 质量控制N/A 储存条件N/A 保存时间N/A 其他信息价格1,就是价格现询
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辐射线光刻胶:以X-射线、电子束或离子束为曝光源的光刻胶。由于X-射线、电子束或离子束等的波长比深紫外光更短,几乎没有衍射作用,因此在集成电路制作中可获得更高的分辨率。辐射线光刻胶是由线宽小于0.1 μm的加工工艺设计的,一般认为,电子束、离子束光刻工艺适用于纳米级线宽。
IP胶是一种基于酚醛树脂的光刻胶 ，它与poly型胶的主要不同在于其胶体表面有明显的抗分解现象，即亲水性较差。对于IP胶而言，其较差的亲水性在显影时会使显影液难以均匀地作用于胶表面，从而形成缺陷或造成显影不完全。所以，在IP胶显影中，其中一个工艺难点就是如何提高显影前IP胶的亲水性。作为一种常用于半导体...
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在芯片封测环节,支持企业在巩固传统封测规模优势的同时,发展先进封测技术。在芯片制造环节,支持企业在成熟制程领域进一步提升竞争力,持续探索先进制程制造。在中高端光刻机、光刻胶、EDA软件等领域,加快培育领军企业,尽快取得技术突破。 第三,提高数字治理...