EFE-12光刻机属于中高端档次。以下是对其的具体评价: 一、技术性能 处理晶圆尺寸:EFE-12能够处理高达12英寸的晶圆,这是目前半导体制造领域的主流尺寸。 工艺节点兼容性:该光刻机兼容90纳米、65纳米、45纳米等多工艺节点,这使其能够满足多种芯片制造需求。 自主核心技术:EFE-12大量采用国内自主研发的核心技术和部件...
此外，EFE-12的研发成功还打破了国际上对高端光刻机技术的长期垄断，为中国半导体产业的发展注入了新动力，拓展了新可能。在技术巅峰屹立的同时，EFE-12也展现出了显著的经济效益。据了解，其市场售价仅为1800万元人民币（约合270万美元），相较于荷兰ASML生产的先进光刻机的高昂价格，显然更具竞争优势。这样的价格...
在深入探讨这个问题之前，我们不妨先了解一下EFE-12光刻机的独特之处。这款光刻机凝聚了中国科研人员的深厚智慧，其性能和技术水平在国际上都具有显著的竞争优势。能够处理12英寸晶圆，并支持从90纳米到45纳米的多个工艺节点，EFE-12光刻机几乎满足了当前市场上主流芯片产品的所有制造需求。这一突破性成就，不仅标志...
中国一直致力于摆脱半导体制造的技术依赖,而近期成功研发的EFE-12光刻机被认为是中国半导体产业的一大里程碑。光刻机在芯片生产中扮演关键角色,其性能直接影响芯片精度和生产效率。长期以来,中国一直受制于国际技术壁垒和出口限制,尤其在光刻机技术上备受限制。荷兰ASML等公司掌握的先进光刻技术一直未能流入中国市场,成为...
EFE-12光刻机作为中国首台能处理12英寸晶圆的国产光刻机,其技术突破意义重大。这台光刻机支持多个工艺节点,显示了中国在追赶半导体高端装备领域的决心和能力。其交付使用,不仅为国内芯片制造企业提供了新的选项,减少了对进口高端光刻机的依赖,也预示着中国在全球半导体产业中的角色正在发生变化。EFE-12光刻机的问世...
禁止阿斯麦给中国修理光刻机，美国翻脸想一石二鸟，荷兰突然反悔 耶伦前脚刚来访华，老美后脚就在后院放火了，准备下周对荷兰施压，让光刻机科技巨头阿斯麦，别给中国提供光刻机的修理服务了。耶伦刚刚还信誓旦旦地说，美国不打算与中国脱钩，希望两国合作愉快，话说得比谁都漂亮。可谁能想到，打脸如此得快。老...
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光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺,如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多,包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。 在整个半导体芯片制造过程中,光刻是最复杂工艺,光刻工...
半导体技术发展都是以光刻机的光刻线宽为代表。光刻机通常采用步进式(Stepper)或扫描式(Scanner)等,通过近紫外光、中紫外光、深紫外光、真空紫外光、极短紫外光、X-光(X-Ray)等光源对光刻胶进行曝光,使得晶圆内产生电路图案。 从原理上讲,光刻机的核心就是制造一个放大的透光的模子,把想要的电路印在模子上面...
这可是国产光刻机的第一台,不得不说,这是一大利好消息。这款光刻机由上海微电子设备有限公司(SMEE)研发,型号为E...查看全文 相关企业信息 公司名称:上海微电子设备有限公司 法人代表: 注册资本:- 成立时间:- 公司类型:- 经营状态:未公开 注册地址: 统一社会信用代码:- 展开>...