TWINSCAN NXT:2000i 为高级逻辑和 DRAM 节点的大批量制造提供出色的覆盖、聚焦控制和交叉匹配。 主要特点和优势 TWINSCAN NXT:2000i 是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为在先进节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。 该系统配备了直列式折反射透镜设计,数值孔径 (NA) 为 1.35,是业内最高的。
据了解,NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。 ASML将于本季度末开始量产Twinscan NXT:2000i,价格未披露。目前,NXE:3400B ...
ASML最顶级的DUV光刻机为nxt2000i分辨率38nm? 只看楼主收藏回复 YonPip 现代级 9 送TA礼物 来自Android客户端1楼2021-02-04 10:58回复 YonPip 现代级 9 该型号光刻机于2018年年底出货给台积电用于生产麒麟990 骁龙865 A13芯片 来自Android客户端2楼2021-02-04 10:58 回复 ...
华为mate60出来对国内外的冲击都非常大,此前荷兰宣布实施半导体出口管制并将于9月1日正式生效,该禁令延迟引发了业内的广泛关注,当天ASML确认,公司获得许可:2023年底之前,可以继续向中国出口NXT:2000i及以上DUV光刻机!从荷兰的禁令延迟到年底,可以看出荷兰与美国可能已经在认真考虑改变制裁方式,禁令延迟的背后,本质也是...
● DUV的禁止是“部分禁止”,是“最先进的DUV”设备。这是日前措施的细节。 ASML在售的浸没式DUV光刻机主要有三大型号: TWINSCAN NXT:2050i、 TWINSCAN NXT:2000i、 TWINSCAN NXT:1980Di。 ASML表示,出口管制条例只涉及部分最新DUV型号, 包括TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。
荷兰半导体设备厂ASML证实,2024年起NXT:2000i、NXT:2050i、NXT:2100i三个型号及后续推出的关键浸润式光源光刻机,都无法取得出口许可;同时,少部分中国芯片厂也无法取得NXT:1970i和NXT:1980i两个型号光刻机。这意味着,部分中国芯片厂只能从ASML买到2013年首次出货的NXT:1965Ci型号光刻机,落后最先进的DUV光刻机NXT...
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一...
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一...
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一...
ASML出货新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺 据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。