扫描电子显微镜是1965年发明的较现代的细胞生物学研究工具,主要是利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态,即用极狭窄的电子束去扫描样品,通过电子束与样品的相互作用产生各种效应,其中主要是样品的二次电子发射。二次电子能够产生样品表面放大的形貌像,这个像是在样品被扫描时按时序建立起来的,即使用逐点成像的方法...
CD的检测手段包括光学测量仪、电子显微镜SEM、原子力显微镜。后两种方法对样品有破坏性，并且无法在短时间...
EPE(Edge Placement Error)量测基本原理 如下图所示,保真度的分析包含对图形的尺寸和形状进行分析,即两者均接近设计图形时,图形保真度好。在DBM中,由CDSEM获取SEM图像的边缘(Edge)每一个像素点与对应设计图形之间存在一一对应的矢量关系。这些矢量是用来表示EPE的基本信息,称之为EPE矢量。利用EPE矢量测量可以定量地分析...
On chip CD主要用来做CIP,正常生产不会用,因为CD SEM的量测效率相对较低,即便对于通常的量测程式,一片wafer上也只会量9-13个点,倘若你坚持让Module去收集CDSEM某道程式的所有图形的Mapping数据,这大概率会打起来吧。。。 (2)HV CDSEM HV CDSEM类似于CDSEM,工作原理会有差别。HV CDSEM利用的是背散射电子(...
从半导体技术发展蓝图的角度来讲,这种竞争所产生的结果是正面的。现在,CD-SEM通过分析多条线,获取特征尺寸(CD)的信息;CD-SEM也正在朝着同时分析多条线的方向努力,而散射成像技术早已实现了这项功能。现在,SEM还通过倾斜图像技术来分析器件结构侧面的信息,而这也恰恰是散射成像技术的强项。
像散是透镜的一种缺陷,是由于光线会聚不相等,而引起的成像不完美。大多情况下由于发光物点不在透镜光轴上,它所发出的光束与光轴有一倾斜较大的角。该光束经透镜折射后,不能聚焦于一点,成像不清晰,故产生像散。 在生产晶圆的过程当中常采用CDSEM 去测量产品的关键尺寸,CDSEM 采用的原理是一次电子束激发测量图形...
SEM 只能提供二 维图像,但其图像有很大的景深,视野较大 [3]。实 际使用时可根据测量需求选择合适仪器。扫描电镜 (CD-SEM)是具有自动定位并测量线条功能的扫描 电镜,广泛应用在半导体生产线,用于线条宽度的 监控。 1 CD-SEM的测量原理 CD-SEM 测量原理为:在高真空的环境下,通 过电子枪加热产生热电子束,通过...
将SEM图形输出,并采用设置在CD-SEM装置外部的图形特征尺寸检测装置对SEM图形进行脱线检测,以获取SEM图形的第二特征尺寸T2;步骤S3,计算第一特征尺寸T1和第二特征尺寸T2之间的差值,获取偏差值;步骤S4,对比偏差值与SEM图形的特征尺寸的允许误差范围,以调整CD-SEM装置各运行参数.上述校正方法能改善CD-SEM装置的检测准确...
现在,CD-SEM通过分析多条线,获取特征尺寸(CD)的信息;CD—SEM也正在朝着同时分析多条线的方向努力,而散射成像技术早已实现了这项功能。现在。 【总页数】4页(P20-23) 【作者】Alexander E.Braun 【作者单位】 【正文语种】中文 【相关文献】 1.基于点散射地震-地质模型的地震散射波成像 [J], 沈鸿雁;李庆春;...