首先,在化学机理上,两种显影液中显影剂和还原剂的作用不同。正胶显影液的显影剂将感光颗粒中的银盐还原为黑色银粒,而负胶显影液的显影剂则是将银盐转化为透明的亚银盐还原物。显影剂的作用决定了显影液的类型,也决定了它在胶片上产生的效果。 其次,在使用方法上,正胶显...
曝光原理:DQ体系利用的是Wolff重排反应,其中DQ中的α-重氮醌在光照下放出氮气和醌自由基,再发生1,2-重排反应生成醌酮,然后在水的作用下,酮基进一步转化为羧基,可以与碱性显影液发生酸碱反应,加速溶解。最终,曝光的区域显影速度快,实现正胶图形化。 负胶 负胶成分:负胶主要由聚合物单...
图2.41正胶和负胶的区别可以从显影后看出来:负胶-曝光的部分不溶于显影液,从而保留下来;正胶:曝光的部分溶于显影液,显影后被去掉。 光刻胶开始是液体,主要由以下几类材料组成:聚合物、溶剂、感光剂、添加物等,工业中主要用的是正胶,负胶由于分辨率较差,显影后的光刻图形边缘不陡直,因而用的比较少,往往用于剥离...
A.正胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率高于负胶B.正胶的感光区域在显影时不溶解,负胶的感光区域在显影时溶解C.负胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率不会降低D.正胶的感光区域在显影时溶解,负胶的感光区域在显影时不溶解E.负胶在显影时会发生膨胀,导致了分辨率的降低相关...
光刻胶①正胶:显影时,感光部分溶解,未感光部分不溶解;②负胶:显影时,感光部分不溶解,不感光部分溶解。光刻需要在洁净室(CleanRoom)完成洁净等级:尘埃数/m3;(尘埃尺寸为0.5μm)10万级:≤350万,单晶制备;1万级:≤35万,封装、测试;1000级:≤35000,扩散、CVD;100级:≤3500,光刻、制版;深亚微米器件(尘埃尺寸...
光刻是在光刻胶上经过曝光和显影的工序,把掩模版上的图形转换到光刻胶下面的薄膜层或硅晶上。光刻主要包含了匀胶、烘烤、光罩对准、曝光和显影等工序。由于光学上的需要,这段工序的照明采用偏黄色的可见光,因此俗称此区域为黄光区。 (3)干法刻蚀 在半导体工艺中,刻蚀被用来将某种材质自晶圆表面上除去。干法刻蚀是...
当L1探测到金属物时,探测振荡器的工作频率将低于或高于基准振荡器的频率(探测到有色金属与探测到非有色金属时会有所不同),使VP栅极电压超过2.5V,VF工作,电流表PA的指针向左或向右偏转(当Ll探测到有色金属时,其电感量会变小,使探测振荡器的工作频率升高,电流表PA的指针向右偏转;若Ll探测到的是非有色金属,其...
6.半导体质量测量的定义。列出在集成电路制造中12种不同的质量测量。陈述使用不同质量测量的工艺。P142 10.解释四探针法,并给出测方块电阻四探针法的优点。P144-145 12.解释等值线图。P145 13.解释椭偏仪的基本原理。用椭偏仪测薄膜厚度有哪些优点?P145-146 ...
A.2561437 B.5263471 C.5263714 D.5263741 查看答案
正胶常常采用的显影液有:A.氢氧化钠B.二甲苯C.四甲基氢氧化铵D.斯托达德溶剂的答案是什么.用刷刷题APP,拍照搜索答疑.刷刷题(shuashuati.com)是专业的大学职业搜题找答案,刷题练习的工具.一键将文档转化为在线题库手机刷题,以提高学习效率,是学习的生产力工具