专业术语叫六重曝光，英文缩写叫SASP，听着挺高大上，其实就是个“笨办法”。咱老DUV光刻机，分辨率大概38纳米，跟2纳米差老远了。但这六重曝光就像绣花似的，一针一线慢慢绣，愣是能把分辨率提高到6.3纳米。2纳米芯片的金属半间距是10纳米，嘿，还真够用了！这就好比，咱想写个蝇头小楷，笔太粗咋办？那就...
这种分工合作的方式使得阿斯麦能够专注于技术研发和光刻机整合,降低了自身成本,提高了产品标准。
近日,佳能负责新型光刻机开发的高管武石洋明在媒体采访中透露,这款备受瞩目的设备预计将在2024年至2025年间正式投入市场。 值得一提的是,由于华为Mate70新机的曝光,华为Mate60价格持续走低。据报道,华为Mate60在“就拍网”(9pai.net)的活动价格低至117元,创下了该机的价格新低,使用浏览器输入9pai.net访问“就...
EUV光刻机，全名叫极紫外光刻机，是目前制造先进芯片的核心设备。它的工作原理就是利用极短波长的紫外光，在硅片上刻画出精细的电路图案。有多精细呢？简单来说，没有EUV光刻机，几乎不可能实现7nm及以下的制程工艺。但光知道它难还不够，EUV光刻机的制造门槛可以说是“天花板级别”。一个机器由超过10万个零件...
刚刚,佳能发布新型 2nm 光刻机 最新消息,近日佳能(Canon)发布了一个名为FPA-1200NZ2C的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。 官方表示,该技术采用与传统投影曝光技术不同的方法形成电路图案,未来要扩大该类半导体设备的阵容来覆盖广泛的市场需求。
和手机CPU芯片不同的是,存储芯片制造最重要的设备不是光刻机,而是刻蚀机。在尹志尧的带领下,科创板中微公司实现世界最顶级刻蚀机的全面自主可控,这也让长江存储能够在存储芯片科技方向大踏步赶超世界一流。存储芯片制造需要刻蚀机和光刻机。CPU制造需要刻蚀机和光刻机。长江存储,存储芯片长江存储成功量产全球最先进的...
实际上光刻机按多少nm分级是不准确的。 按照mmp分级会比较准。 单次114 76 26 16。对齐精度这个影响的是多次曝光的mmp。 比如单次76,2次曝光理论上是38,但是因为有2.5对齐误差。所以是40.5。 saqp,也就是四重曝光,实际是曝光3轮。(可以理解为124) ...
这款光刻机的强大之处在于其能够轻松应对2nm及以下芯片的制造需求。更高的NA值意味着更高的分辨率,进而使得工艺制程得以进一步压缩。据专业人士预测,这款光刻机最低可实现1nm以下芯片的制造,无疑将为未来的芯片行业带来革命性的变革。 然而,这款光刻机的庞大体积和复杂安装过程也令人咋舌。重达150吨的庞然大物...
回复@熊出没注意2: 光刻机还早, 65纳米的水平, 多重曝光最多28纳米。 想像空间还大得很, 等后面euv搞出来, 可能想像空间就小了,毕竟这玩意市场空间小。//@熊出没注意2:回复@大湾区炒家:就是因为中国技术突破。光刻机就没想象力了!以前盾构机,一台多少钱啊,那可是N年前啊!阿斯麦光刻机现在才多少钱?!
日本首台EUV光刻机曝光,2nm将到来 来源:内容编译自日经 距离芯片制造商 Rapidus 位于北海道的新工厂的尖端半导体原型生产线投入使用不到六个月,其给当地带来的经济效益(可能超过 18 万亿日元(1200 亿美元))已开始显现,尽管实现大规模生产的目标仍存在障碍。