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半导体制造中钼靶材的作用 物理气相沉积（PVD）：钼靶材在PVD过程中发挥着至关重要的作用，PVD技术通过物理方法将钼材料从固态转变为蒸汽态，再沉积到硅片上形成薄膜。钼薄膜用于制造导电路径、电极以及作为屏障层，防止不同金属层之间的扩散。提升器件性能：钼靶材制成的薄膜具有优良的导电性和化学稳定性，有助于提升...
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什么是钼靶材?..钼靶材是一种由钼制成的特殊金属靶材,主要用于高科技领域。它以其高熔点、良好的导电和导热性能而著称,这些特性使得它在高温或高压环境下依然能保持稳定。因此,钼靶材在半导体制造、薄膜沉积技术、光伏产业及医疗
CVD法可以生产极高纯度和特定微结构的钼靶材，适用于对材料性能要求极高的应用领域。物理气相沉积 (PVD)：类似于CVD，但是钼材料是通过物理方法（如蒸发或溅射）从源材料转移到基板上。PVD技术适用于制造超薄或特殊涂层的钼靶材。每种方法都有其特点和适用范围，选择合适的制备技术取决于所需钼靶材的最终用途、所需...