蒸镀法制备的薄膜在均匀性、致密性、缺陷程度等方面表现更佳,在大面积成膜方向上更具有潜力,但是存在薄膜沉积速率慢,生产效率低,靶材利用率低,设备价格较高,设备兼容性较差等缺点。 设备上涂布难点在刀头和控制,蒸镀难点在蒸发源和控制:涂布设备根据刀头分为刮刀涂布和狭缝涂布,狭缝涂布效果更好且可为无接触式涂布...