事实上，纳米压印光刻技术是一种可以绕过ASML等光刻机巨头的技术路线。据了解，该技术路线使用的是一种...
纳米压印光刻的潜力也被全球各国所认可,不仅被普林斯顿大学、德克萨斯大学、哈佛大学、密西根大学、林肯实验室、德国亚琛工业大学等知名大学和机构大力推进,ASML(阿斯麦)、台积电、三星、摩托罗拉、惠普等龙头也持续看好纳米压印光刻的前景,一直在默默加大投入。 全球纳米压印光刻设备提供商不完全统计,制表丨果壳硬科技 参考资...
另外之前网传的清华光刻厂,计划建设KW级别光源,其实ASML目前的High-NA EUV光刻机EXE5200就已经达到600W,这也才是一台EUV的功率,所谓KW的同步辐射光源可能还没有两台EUV产能来的高,所以光刻厂至少是要100KW或者MW级别,同步辐射要产生100KW级别的光源,个人认为技术还有很远的路要走而且建设资金也并非网传同步辐射不...
要想知道纳米压印光刻(简称NIL)能不能撼动EUV的地位,或者直接一点撼动ASML的地位。那么我们就不可能绕过光刻机的发展和原理。也相当于是ASML的发展历史。其中就会涉及到“亿”点点技术了。 ASML最早成立时的简易平房 1984年,由于财务状况不佳,飞利浦决定与其他公司合作接管其光刻机项目。荷兰的ASM公司创始人普拉多看到...
纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗? 自从国产替代概念兴起,很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前,全世界最先进的芯片,几乎都绕不开ASML(阿斯麦)的DUV(深紫外)和EUV(极紫外)光刻机,但它又贵又难造,除了全力研发光刻机,国产有没有其它的路可以走?事实上,光刻技术本身存在多种路线,离产业最近的,当属...
如今光刻机的知名度,可谓是无人不知、无人不晓,在美相关限制之下,也凸显了芯片对科技发展的重要性,而摆在国产芯片面前最大的阻碍正是这光刻机,荷兰的ASML作为唯一能够组装光刻机的企业,使用到了大量的美国尖端技术,外加上大量的光刻机在美本土制造,ASML公司在进出口上受到了很大限制。
纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗? 日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
该公司的方法与极紫外光刻系统完全不同,极紫外光刻系统由总部位于荷兰的阿斯麦(ASML)独家生产。这家荷兰公司采用一种复杂的工艺:首先用千瓦级的激光将熔化的锡滴击打成等离子体,等离子体会发出13.5纳米波长的光(https://spectrum.ieee.org/high-na-euv)。然后,通过特殊的光学器件将这种光导入真空室,并从有图案的掩...
目前,先进制程使用的是极紫外(EUV)光刻技术,ASML是全球唯一可供应极紫外光刻设备的制造商。佳能推出的纳米压印光刻设备经过改良后甚至能生产2纳米级半导体,希望挑战ASML在光刻设备市场的地位。与使用光的传统方法相比,纳米压印的优势在于能够抑制耗电量和成本。佳能光学设备事业本部副事业本部长岩本和德表示:“我们的目标...
自从国产替代概念兴起,很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前,全世界最先进的芯片,几乎都绕不开ASML(阿斯麦)的DUV(深紫外)和EUV(极紫外)光刻机,但它又贵又难造,除了全力研发光刻机,国产有没有其它的路可以走? 事实上,光刻技术本身存在多种路线,离产...