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大众的焦点虽然在光刻机上，但整个半导体行业何止光刻设备，光刻机只是其中一环，其他还有刻蚀机，化学或物理沉积设备，氧化设备，封测设备，晶圆切割机，离子注入设备，抛光设备清洗设备等等，其中离子注入机也是非常重要的半导体设备，当然也同样具有非常高的技术壁垒，不过好消息是目前在离子注入机方面已经有很大突破。...
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村农野语。若山若争。中微公司的主打产品等离子体刻蚀设备是除光刻机以外最关键的微观加工设备,是制程步骤最多、工艺过程开发难度最高的设备。由于光刻机的波长限制和2维芯片到3维芯片的发展,等离子体刻蚀设备越来越成为关键制约设备,也成为十大类关键设备市场最大的一类
等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备与光刻机是制造集成电路、LED芯片等微观器件的最关键设备。公司等离子体刻蚀设备涵盖65纳米、45纳米、32纳米、28纳米、22纳米、14纳米、7纳米和5纳米微观器件的众多刻蚀应用。公司电感性等离子体刻蚀设备,主要涵盖14纳米以下微观器件的刻蚀应用。薄膜沉积设备方面,公司MOCVD设备在行业领先...