本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法。 本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠、铝、钾、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、银、钨、金、汞等元素含量的测定,测定范围为108 cm-2～1012 cm-2。 本文件适用于100 mm(4吋)～200 mm(8吋)...
主要技术内容:本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法.本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠,铝,钾,钙,钪,钛,钒,铬,锰,铁,钴,镍,铜,锌,银,钨,金,汞等元素含量的测定,测定范围为108cm-2～1012cm-2.本文件适用于100mm(4吋)～200mm(8吋)碳化硅原生...