由热氧化机理解释干、湿氧速率相差很大这一现象由二氧化硅基本结构单元可知,位于四面体中心的Si原子与四个顶角上的氧原子以共价键方式结合在一起,Si原子运动要打断四个Si-O
更多“由热氧化机理解释干、湿氧氧化速率相差很大这一现象的原因?”相关的问题 第1题 各类不同的硫化物加氢脱硫速率相差几个数量级,各类加氢脱氮反应的反应速率常数相差()。 A.巨大 B.很大 C.不大 D.无规律 点击查看答案 第2题 反应的活化能怎样影响化学反应速率?为什么有些反应的活化能很接近,反应速率却...
所以,在热氧化的过程中,氧化剂通过氧化层扩散至SiO2-Si界面处进行反应,而不发生在SiO2层的外表层。 在氧化过程中,氧化反应的速度很快,而扩散速度较慢,因此,在高温氧化时,氧化剂扩散速度决定了氧化速度。同样的氧化层厚度,水分子的扩散速度是氧的几十倍,所以,干氧和湿氧氧化速率差别较大。
答由二氧化硅基本结构单元可知位于四面体中心的原子与四个顶角上的氧原子以共价键方式结合在一起原子运动要打断四个键而桥联原子的运动只需打断二个键非桥联氧原子只需打断一个键因此在网络结构中原子比原子更容易运动氧原子离开其四面体位置运动后生成氧空位在热氧化过程中
由热氧化机理解释干、湿氧速率相差很大这一现象。答案 答:由二氧化硅基本结构单元可知,位于四面体中心的Si原子与四个顶角上的氧原子以共价键方式结合在一起,Si原子运动要打断四个Si-O键,而桥联O原子的运动只需打断二个Si-O键,非桥联氧原子只需打断一个Si-O键。因此,在SiO2网络结构中,O原子比Si原子更容易运动...