通过分析不同光照强度、不同外加偏压、磁光电流和电化学阻抗谱下三元器件的电流密度-电压（J-V）曲线，研究了分子间动力学过程和电荷动力学过程。最后，研究人员制备了一系列活性层厚度为100-300 nm的三元混合OSCs，结果显示，具有300 nm厚的最终优化器件PCE达到了15.34%，平均值为15.13%（20组），这些结果...
通过分析不同光照强度、不同外加偏压、磁光电流和电化学阻抗谱下三元器件的电流密度-电压(J-V)曲线,研究了分子间动力学过程和电荷动力学过程。最后,研究人员制备了一系列活性层厚度为100-300 nm的三元混合OSCs,结果显示,具有300 nm厚的最终优化器件PCE达到了15.34%,平均值为15.13%(20组),这些结果说明了优化后...
通过分析不同光照强度、不同外加偏压、磁光电流和电化学阻抗谱下三元器件的电流密度-电压(J-V)曲线,研究了分子间动力学过程和电荷动力学过程。最后,研究人员制备了一系列活性层厚度为100-300 nm的三元混合OSCs,结果显示,具有300 nm厚的最终优化器件PCE达到了15.34%,平均值为15.13%(20组),这些结果说明了优化后...
通过分析不同光照强度、不同外加偏压、磁光电流和电化学阻抗谱下三元器件的电流密度-电压(J-V)曲线,研究了分子间动力学过程和电荷动力学过程。最后,研究人员制备了一系列活性层厚度为100-300 nm的三元混合OSCs,结果显示,具有300 nm厚的最终优化器件PCE达到了15.34%,平均值为15.13%(20组),这些结果说明了优化后...
通过分析不同光照强度、不同外加偏压、磁光电流和电化学阻抗谱下三元器件的电流密度-电压(J-V)曲线,研究了分子间动力学过程和电荷动力学过程。最后,研究人员制备了一系列活性层厚度为100-300 nm的三元混合OSCs,结果显示,具有300 nm厚的最终优化器件PCE达到了15.34%,平均值为15.13%(20组),这些结果说明了优化...