CMP抛光液中发挥主要作用的是固体粒子研磨剂和氧化剂,固体粒子研磨剂一般为纳米级,发挥研磨作用,氧化剂发挥腐蚀溶解作用。抛光液浓度、研磨剂种类和大小、酸碱性、流速等对抛光速度和加工质量均有影响,抛光液的技术难点在于需根据不同的材料调整配方组合,以改善抛光速度和效果。 CMP抛光液产业链上游主要为研磨颗粒、PH...
抛光液是均匀分散胶粒乳白色胶体,主要起到抛光、润滑、冷却的作用。抛光液由磨料、PH 值调节剂、氧化剂、分散剂、表面活性剂等多种成分混合而成,介质复杂度很高。高品质抛光液的关键在于控制磨料的硬度、粒径、形状等因素,同时使得各成分达到合适的质量浓度,以达到最好的抛光效果。 本文研究硅片抛光液,主要包括硅粗...