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德国Sentech 200 RIE 离子刻蚀与沉积系统 ,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。根据其模块化设计,Etchlab 200可以升级为更大的抽油机、真空负载锁和额外的气体管道。 详细介绍 德国Sentech 200 RIE 离子刻蚀与沉积系统 Cost-effectiveness RIE plasma etcher Etchlab 200 combines parallel plate plasma source des...
德国Sentech激光椭偏仪SE 400adv, 测量透明薄膜的厚度和折射率指数,具有测量速度、亚埃级别的厚度精度和折射率测定的精度。多角度测量允许使用激光椭偏仪SE 400adv表征吸收膜特征。 详细介绍 激光椭偏仪 SE 400adv 激光椭偏仪SE 400adv测量透明薄膜的厚度和折射率指数,具有测量速度、亚埃级别的厚度精度和折射率测定的精...
德国Sentech红外光谱椭偏仪SENDIRA SENDURO 全自动光谱椭偏仪 SpectraRay/4光谱椭偏测量/分析软件 光谱椭偏仪SE 800 PV 1 2 产品详情 产品特点 热门问答 SENDIRA红外光谱椭偏仪,振动光谱的特点是傅立叶红外光谱仪FTIR。测量红外分子振动模的吸收谱带,分析长分子链的走向和薄膜的组成。红外光谱椭偏仪适用于测量导...
发货地 上海 商品类型 电子元器件 、 开发板/开发套件 、 原型开发产品 商品关键词 干法刻蚀机、 刻蚀机、 等离子刻蚀机、 深硅刻蚀机、 SENTECH刻蚀机 商品图片 商品参数 产地: 德国 原理: 等离子刻蚀 尺寸: 60*60mm 支持尺寸: 8寸 应用: SiO2, SiN 价格说明 价格:商品在平台的展示标价,具...
德国Sentech SE 400adv PV 激光椭偏仪 粗糙表面分析:高灵敏度和超低噪声检测允许在非理想,杂散光造成表面的测量,典型的纹理单晶和多晶硅太阳能电池。防反射涂层的国际标准:目前国内外已有330多台SE 400adv PV激光椭偏仪用于表征防反射膜。高度准确:SE 400adv PV激光椭偏仪具有稳定的激光光源、稳定的温度补偿装置、...
英国dage4000经典系列推拉力测试机 ¥ 90000.00 全自动共晶贴片机/贴装精度±5um 价格面议 商品描述 价格说明 联系我们 咨询底价 产地: 德国 原理: 等离子刻蚀 尺寸: 60*60mm 支持尺寸: 8寸 应用: SiO2, SiN 价格说明 价格:商品在平台的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,...
SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具,是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的条件下分析薄膜特性(生长速率,厚度,折射率),在短时间内开发新工艺、实时研究ALD循环中的反应机理是SENTECH ALD实时监测仪的主要应用。 详细介绍 德国Sentech ALD实时监测仪 ...
品牌 SENTECH 原产地 德国 应用 半导体芯片 原理 等离子刻蚀 支持尺寸 8寸 刻蚀材料 三五族化合物半导体(GaAs, InP, GaN, InSb 可售卖地 全国 低损伤刻蚀由于离子能量低,离子能量分布带宽窄,因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。高速刻蚀对于具有高深宽比的高速硅基MEMS...
品牌:SENTECH 产地:德国 型号:SI500 样本:来电或留言获取样本 在线咨询 留言咨询 电话咨询 收藏 AI问答 德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀SI500价格? 可以检测什么? 德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀SI500参数规格? 配套的耗材试剂? 德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀SI500操作规程? 使用注意事项? 德国SENTECH刻蚀机RIE...