国产 28nm immersion式光刻机实现突破: 国产光刻机在技术节点上与国际厂商相比仍有差距,其中上海微电子是国内光刻机龙头企业,其SSX600系列光刻机可满足IC前道制造 90nm 、 110nm 、 280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求,可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。在之前 90nm 的基础上,上海微电子即将量产28...