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在离子注入后+通常采用退火措施+可以消除由注入引起的晶格损伤+常用的退火方式有
在离子注入后+通常采用退火措施+可以消除由注入引起的晶格损伤+常用的退火方式有
2025-02-27 13:09:42
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在离子注入后通常采用退火措施可以消除由注入引起的晶格损伤常用的退火方式有
为什么要将注入的杂质形成离子 又为什么离子注入工艺后必须 进行退火 而且是要采用快速退火
离子注入和退火对ltps-tft特性的影响研究
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