工业和信息化部于 9 月 9 日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的内容。光刻机共经历了五代的发展，从最早的 436 波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF （氟...
经过数年如一日的潜心钻研，中国终于在 28纳米光刻机领域实现重大突破。这台国产光刻机的诞生，意义非凡。它不仅打破了外界对“中国造不出光刻机”的偏见，实现了 90%核心零部件的自主可控，还通过多重曝光技术具备制造 7 纳米芯片的能力，如同在科技发展的地图上开启了一条全新路径，解锁了更多的发展机遇。这一...
不久前，一则消息将国产光刻机推上了热搜，有媒体称国产8nm制程光刻机问世，突破7nm甚至5nm也将指日可待。尽管大家都愿意看到国产光刻机获得重大突破，但这一消息实属谣言。要知道，上海微电子作为中国光刻机第一巨头，其国内市场份额超过80%，但还未踏足10nm芯片制程领域，更别说8nm了。面对中国网友的“自嗨...
二、国产光刻机突破，3纳米芯片不是梦 好在啊，咱们国家的科研人员没有让大家失望。经过多年的努力，咱们终于自主研发出了光刻机，而且性能还不错！据说啊，这国产光刻机已经能够实现3纳米级别的芯片制造了。这可是个了不起的成就啊，要知道3纳米可是当前最先进的芯片制程之一了。那么，这3纳米芯片又能给咱们带来...
外媒纷纷表示：国产EUV光刻机开始突破了！近日，荷兰ASML公司的总裁富凯在接受媒体采访时，对于美国和荷兰共同禁止向中国大陆出口先进的EUV光刻机表示了极大的信心。他认为，这一禁令有效地阻碍了中国大陆在芯片制造技术上的进步，使得大陆在这一领域相较于西方落后了10年甚至15年。富凯的这番言论，无疑凸显了EUV光刻...
一旦咱们国产EUV光刻机实现突破，那影响最大的就是ASML和台积电了。因为咱们大陆可是全球最大的半导体市场之一啊，对芯片的需求那是源源不断的。如果咱们能自己生产高端芯片了，那还需要进口他们的产品吗？然而啊，当哈工大光源突破的消息传出来后，ASML和台积电都表现得非常沉默。他们心情恐怕不仅焦虑，还有些怀疑。
按套刻精度与量产工艺约1:3的关系,国产氟化氩光刻机套刻≤8nm,大概只是可以量产28nm工艺的芯片。 尽管只是28nm工艺的突破,且芯片良品率可能较低,但这一消息足以让大多数国人为之振奋,因为28nm已经能够满足芯片行业绝大多数应用场景。 当前,除最先进的CPU、GPU、AI芯片外,其余的工业级芯片大多采用的是28nm以上的...
就在大家都为国产光刻机发愁的时候，哈工大站了出来！这次哈工大突破的，是一项和光刻机核心技术相关的关键技术。简单来说，这项技术就像是给光刻机撞上了一个更强大的“大脑”，让它能够更精准地控制光刻的过程，提高芯片制造的精度和效率。可能有人会问了，不就是提高点精度和效率嘛，有这么了不起吗？嘿，...
近日，中国政府宣布两款国产芯片光刻机取得“重大技术突破”，彰显了中国在半导体领域追求科技自给自足的努力。这两款光刻机据称已经实现了关键技术突破，并拥有自主知识产权。尽管尚未正式投入市场，但其研发进展无疑为中国半导体产业带来了新的希望。据工业和信息化部（MIIT）透露，其中一款深紫外线（DUV）光刻机的...