工业和信息化部于 9 月 9 日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的内容。光刻机共经历了五代的发展，从最早的 436 波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF （氟...
国产光刻机取得重大进展，即将迎来历史性投产，这一突破性成就意味着我国将彻底摆脱对进口光刻机的依赖。美国等国的科技优势将因国产光刻机的应用而受到挑战，美国的科技壁垒也将随之瓦解。这一进展不仅将引领国内半导体产业迎来新的发展热潮，更将为中国半导体产业带来前所未有的发展机遇。特别值得一提的是，上海微电...
就连外媒都纷纷表示，西方的芯片封锁失败了。有人可能一听8nm就激动了，以为能造8nm芯片了。其实呢，这个套刻精度跟造芯片的大小不是直接划等号的。它更像是咱们画画时用的细笔，画得越细，线条越多，就越能画出复杂的图案。光刻机也是这样，分辨率不够时，就得分多次画，每次画都要对准，这个对准的误差就是...
然而，即便国产光刻机技术在战略层面取得了重大突破，我们也应保持谦逊，不可沾沾自喜。客观地讲，尽管我国在光刻机领域已取得显著进展，但与国际顶尖水平相比，仍需努力追赶。当前，国际上最先进的光刻机已能制造出4纳米甚至更精密的芯片，而我国在此技术上尚需时日。我们必须清醒地意识到，科技的进步是一个持续...
这一突破性进展预示着国产光刻机在不久的将来有望突破7nm技术，进一步提升我国芯片产业的自主能力。国产光刻机的成功研发与交付，预示着光刻机全球产业链布局可能发生重大变革，有助于我国摆脱欧美国家的制裁。同时，在极紫外光刻机领域，中科院和哈工大分别在EUV光源系统、高精度弧形反射镜系统以及超高精度真空双工件台...
中国在半导体产业领域再获重大突破，成功研发出100%国产化的光刻机，这一工业皇冠上的明珠被我们牢牢把握。这一里程碑式的成就，不仅标志着中国半导体产业链的全面崛起，更象征着在与美国等全球科技强国的战略对决中，中国取得了又一关键性胜利。这就像朝鲜战场上甘岭战役的胜利，成为了抗美援朝战争的转折点，而中国军队...
得知中国光刻机取得重大进展后，ASML迅速表达了愿意加强合作的意愿，但这可能已经太迟了。因为国产光刻机的大规模生产似乎近在眼前。事实上，ASML之所以如此关注中国的光刻机技术，主要是因为中国庞大的市场需求。作为世界最大的半导体市场之一，中国对光刻机的需求不断上升，而国产光刻机的进步将使中国在这个领域获得...
总的来说，国产光刻机的这一重大突破是中国半导体产业自主化进程中的一个重要步骤，虽然与国际领先技术还有差距，但已经为中国在该领域的未来发展奠定了坚实的基础。6.光刻机行业投资逻辑与个股梳理 光刻机是半导体产业的核心设备，直接决定芯片制程的先进程度，重要性不言而喻，在全球半导体产业持续扩张的趋势下，光...
最近，中国在光刻机技术方面取得了重大突破。工业和信息化部（工信部）宣布，国产DUV光刻机的套刻精度已达到8纳米，这是一个值得注意的进展。虽然这并不意味着能够直接制造8纳米工艺的芯片，但它标志着国产光刻机技术的一个重要里程碑。具体来说，这次突破涉及两种光刻机：氟化氪（KrF）光刻机和氟化氩（ArF）光...
以张江高科技园区特色房产营运为主导的张江高科，通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子装备有限公司。这一投资不仅助力了微电子装备的发展，也为实现“中国芯”国产光刻机的重大突破贡献了力量。蓝英装备（300293）作为全球领先的清洗系统和表面处理设备及解决方案提供商，蓝英装备在光刻机领域也取得...