OTF-1200X-III-PGEP 产品概述: OTF-1200X-III-PGEP是一款多功能的合成系统,针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺,此款仪器有三个组成模块,超声雾化装置,1200度管式炉和高压静电收集装置。材料制作分为三个步骤:前驱体雾化,加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统,可广泛用于纳米...
OTF-1200X-HP-55 产品概述: OTF-1200X-HP-55是一款通过CE认证的开启式管式炉,炉管采用无缝镍基合金管。此款设备专为高温高压试验设计,最大压力可达21MPa,最高温度可达1100℃。对于高压制备新材料和作为小型热等静压炉处理合金样品是一款理想的设备。
OTF-1200X-V是一款通过CE认证的是五温区开启式管式炉,每个温区分别由五个独立温控系统单独控制,通过调节各个温区的温度,可以在加热区内形成四段温度梯度或是形成较长的恒温区域。每个控温系统都采用PID方式调节,可以设置50段升降温程序,采用K型omega热电偶进行温度的测量和控制,其控温精度可以达到+/- 1℃。
OTF-1200X-VII是一款CE认证的七温区高温管式炉,最高温度可达1100 ℃,每个温区分别由七个独立温控系统单独控制,通过调节各个温区的温度,可以在加热区内形成六段温度梯度或是形成较长的恒温区域。每个控温系统都采用PID方式调节,可以设置50段升降温程序,采用K型热电偶进行温度的测量和控制,其控温精度可以达到+/- ...
OTF-1200X-SL单温区电动滑轨炉是一款快速热处理炉,采用电阻丝加热,最大升温速率10℃/min,炉子底部装有滑轨,可使炉子从炉管的一侧滑动到另一侧,以实现快速加热和快速冷却,该炉设计也可用于通过CVD生长石墨烯和碳纳米管。采用触摸屏+PLC控制,可以实现速度可调 ...
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉,此款设备主要包括混气装置,加热炉,基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器配合,进行脉冲激光蒸发镀膜,而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材,可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。
OTF-1200X-VII-80-GF是一款高温高压管式炉,炉体拥有8个温区。仪器中配有气体控制柜以及氧分析仪,可使炉管内的气压在升降温过程中保持恒定,特别是对于氧化物的处理,可使炉管内的氧分压保持恒定。炉管采用高温镍基合金钢制作,最高可耐温1100℃。此款高温高压炉特意设计为氧化物超导线和氧化物陶瓷进行热处理。
OTF-1200X-Ⅲ-U(UL)是一款三温区开启式管式炉,加热区900mm(300+300+300mm),搭载了触摸屏控制系统,一键启动/停止多温区,带有自动记录(记录1个月)和预设升温曲线功能,可预存5条自定义配方工艺随时调用,控温精度±1℃,最高温度可以达1200℃,炉管为高纯石英管,直径25、50、60、80、100、130mm可以选择,设备...
OTF-1200X-S-HPCVD 产品概述: OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可在炉管内移动(靠步进电机控制)的小型开启式管式炉。炉管外径为50mm,设备最高工作温度为1200℃。通过触摸屏数字控制器控制样品台或坩埚在炉管内的位置和温度。此设备可进行快速热处理,例如混合物理化学沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE),以及在各种气氛下...
灰化收集炉OTF-1200X-III-AFT包含三温区管式炉,过滤装置以及真空系统。系统可用于燃烧样品后灰化并收集灰分的实验,同时也可用于尾气处理实验。炉体以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温,K型热电偶,炉膛采用高纯氧化铝纤维材料,是实验室材料制备的理想设备。