用SYNOPSYS 和 ASAP 联合设计仿真设计分析光刻镜头 SYNOPSYS™ 光学设计软件与 ASAP 高级光学系统分析软件都是在光学领域受众较为广泛的光学软件。考虑大家对于不同软件之间进行交互操作以及具体案例操作流程不熟悉的情况,武汉墨光将在 05月12号 开展用SYNOPSYS 和 ASAP 联合设计仿真设计分析光刻镜头 线上研讨会
2.平面波前:紫外光刻镜头需要保持图案的平面波前,以确保图案的投影在整个芯片表面上都是均匀的。 3.大视场:紫外光刻镜头通常需要具有较大的视场,以便在单次曝光中覆盖整个芯片区域。 4.低畸变:镜头设计需要尽可能减小像差和畸变,以确保投影的图案保持形状和精确度。 三.透射式光刻物镜: SYNOPSYS 的 DSEARCH 功能...
光刻光学镜头设计 - 张江实验室 • 薪资:25 - 50K·15薪。 • 要求:光学工程等专业硕士及以上学历,博士优先,3年以上工作经验,运用Zemax等工具进行波像差分析等关键性能仿真。 • 职责:主导软X射线物镜及照明系统的架构设计与优化,确保高效传输与成像质量。 某深圳电子/半导体/集成电路公司 - 光学设计专家 ...