光刻胶推荐:AR-P 5350,AR-P 5400,AR-N 4240,AR-N 4340,AR-N 4400等 参数信息 外观状态:固体或粉末 质量指标:95%+ 溶解条件:有机溶剂/水 CAS号:N/A 分子量:N/A 储存条件:-20℃避光保存 储存时间:1年 运输条件:室温2周 生产厂家:西安齐岳生物科技有限公司
光刻胶AR-P 5350 Catalog #Pkg SizePriceQuantityShopping Cart R-GKJ-00581￥ 1 结构式 基本信息产品描述参考文献相关文档 外观N/A 分子量N/A 溶解度N/A CAS号N/A 质量控制N/A 储存条件N/A 保存时间N/A 其他信息价格1,就是价格现询
准备在我们信电系学校做光刻,他们用的就是AR-P5350。 东环小苦逼 一般显影效果不好,首先考虑PEB时间和温度 然后考虑puddle形成情况 再考虑显影液,我这边用3037 fengzikun 这胶我正在用,显影液用300-26,曝光时间长一点,具体使用参数网上有的。显影液的温度尽量不变(不要放在热源附近) , 15 1 2 ››猜...
如题，准备用正胶进行刻蚀。哪个好被清洗掉，因为我的样品不可以超声只能浸泡，然后我要进行氧等离子体...
光刻胶推荐:AR-P 5350,AR-P 5400,AR-N 4240,AR-N 4340,AR-N 4400等 5. 电镀法(electroplating) 电镀法是转移较厚的金属结构时使用到的一种转移技术。其过程一般为3个步骤:首先,在衬底材料上制作一层金属导电薄膜作为电镀的起始衬底,然后通过光刻或电子束曝光形成光刻胶或抗蚀剂掩膜; 第二步是将制作有光...
AR-P 6510 (PMMA厚胶)LIGA工艺用正胶: 以PMMA为基础开发出的电子束厚胶,厚度从10~250μm不等,图形剖面陡直。主要用于LIGA工艺和X-Ray 曝光工艺。 AR-BR 5400 双层Lift-Off工艺底层胶: 可以得到稳定的Lift-off结构,利于金属的沉积。在制作双层工艺时,需要和正胶AR-P 3500或AR-P 3500T配合使用。从270nm到...
光刻胶推荐:AR-P 5350,AR-P 5400,AR-N 4240,AR-N 4340,AR-N 4400等 5. 电镀法(electroplating) 电镀法是转移较厚的金属结构时使用到的一种转移技术。其过程一般为3个步骤:首先,在衬底材料上制作一层金属导电薄膜作为电镀的起始衬底,然后通过光刻或电子束曝光形成光刻胶或抗蚀剂掩膜; 第二步是将制作有光...
光刻胶: AR-P 5350,AR-P 5400,AR-N 4240,AR-N 4340,AR-N 4400等5. 电镀法(electroplating) 电镀法是转移较厚的金属结构时使用到的一种转移技术。其过程一般为3个步骤:先,在衬底材料上制作一层金属导电薄膜作为电镀的起始衬底,然后通过光刻或电子束曝光形成光刻胶或抗蚀剂掩膜; 第二步是将制作有光刻胶...
请问，有没有大佬做过AR-P5350光刻胶，3um的厚度的旋涂参数大概是多少呢？发自小木虫Android客户端 ...
光刻胶放在冰箱里恒温保存，紫外光每次不稳定。发自小木虫Android客户端